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J-GLOBAL ID:200903015016423494

被処理流体処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 津川 友士
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996135083
Publication number (International publication number):1997314134
Application date: May. 29, 1996
Publication date: Dec. 09, 1997
Summary:
【要約】【課題】 光触媒と被処理流体との十分な接触を確保するとともに、光触媒に対して有効にかつ安定に光を照射する。【解決手段】 可動体3と、可動体3の所定位置に付着させられた光触媒4と、可動体3を被処理流体と接触するように動作させる駆動源1と、前記光触媒4に光を照射する光源5とを含み、前記光源5は、可動体3の移動経路の一部において光触媒4に光を照射するものである。
Claim (excerpt):
可動体(3)(22)(31)と、可動体(3)(22)(31)の所定位置に付着させられた光触媒(4)(25)(32)と、可動体(3)(22)(31)を被処理流体と接触するように動作させる駆動源(7)(8)(24)(35)と、前記光触媒(4)(25)(32)に光を照射する光源(5)(26)(33)とを含み、前記光源(5)(26)(33)は、可動体(3)(22)(31)の移動経路の一部において光触媒(4)(25)(32)に光を照射するものであることを特徴とする被処理流体処理装置。
IPC (4):
C02F 1/30 ,  A61L 2/02 ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02
FI (4):
C02F 1/30 ,  A61L 2/02 Z ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭60-187322
  • 液体浄化方法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-130059   Applicant:株式会社新素材総合研究所

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