ホトレジスト溶液供給方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川洋子 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994186607
Publication number (International publication number)：1996024775
Application date： Jul. 15, 1994
Publication date： Jan. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】ホトレジスト溶液の連続的なろ過・供給におけるパーティクルの除去効率の低下を防止し、ホトレジスト塗布性の向上、素子等の製品の製造効率の増大、製造コストの低下を図る一方、界面活性剤を配合したホトレジスト溶液においては、ろ過後のホトレジスト溶液中の界面活性剤量を規定することによりストリエーションのない塗布膜を基板上に連続的に安定かつ確実に供給することができるホトレジスト溶液供給方法を提供する。【構成】ホトレジスト溶液をポリアルケン膜から成るフィルタでろ過後、基板上へ供給するよう構成する。ホトレジスト溶液は、好ましくはアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基含有化合物および界面活性剤を含む樹脂組成物を溶解した有機溶剤溶液であり、ストリエーション防止のためには、界面活性剤としてはフッ素系界面活性剤を樹脂組成物中に150〜600ppmの濃度で含有するよう構成する。

Claim (excerpt)：

ホトレジスト溶液をポリアルケン膜から成るフィルタでろ過後、基板上へ供給することを特徴とする、ホトレジスト溶液供給方法。

IPC (4)：

B05D 1/40 , B01D 71/26 , B05C 11/10 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

レジスト組成物の製造方法及びレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-347752 Applicant：住友化学工業株式会社
ポジ型フオトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-104542 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平4-296754

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