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J-GLOBAL ID：200903015254995188

洗浄剤組成物

Inventor： 堀端 智子 ,  鎌下 知子 ,  和田 勝 ,  永田 輝幸
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995055650
Publication number (International publication number)：1996253794
Application date： Mar. 15, 1995
Publication date： Oct. 01, 1996
Summary：

【要約】【構成】 一般式(1)で表される2級アミド型N-アシルタウリン塩とR1CONHCH2CH2SO3M (1)(式中R1COは炭素数10〜16の直鎖アシル基を示し、Mはナトリウム、カリウムまたはアルカノールアンモニウムを示す。)一般式(2)で表される脂肪酸アミド誘導体(式中R2は炭素数8〜20のアルキル基を示し、R3およびR4は同一または異なって水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基または-(C2H4O)mH基(ここでmは2〜4の数を示す)を示す)を含有する洗浄剤組成物。【効果】 泡立ちに優れ、低刺激性であり、泡切れが良く、かつすすぎ時から乾燥した後に至るまで被洗浄物表面の潤滑性が高く、しかも使用後にきしみやつっぱり感が生じることのない、使用感に優れた性質を有している。

Claim (excerpt)：

次の成分(A)及び(B)(A)次の一般式(1)で表される2級アミド型N-アシルタウリン塩【化1】R1CONHCH2CH2SO3M (1)(式中R1COは炭素数10〜16の直鎖アシル基を示し、Mはナトリウム、カリウムまたはアルカノールアンモニウムを示す。)(B)次の一般式(2)で表される脂肪酸アミド誘導体【化2】(式中R2は炭素数8〜20のアルキル基を示し、R3およびR4は同一または異なって水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基または-(C2H4O)mH基(ここでmは2〜4の数を示す)を示す)を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (6)：

C11D 1/65 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1:28 ,  C11D 1:52 ,  C11D 1:04

FI (3)：

C11D 1/65 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-321964   Applicant：花王株式会社
• 特開平4-211607
  
• 特開平4-149169
  
• 特開平2-105894
  
• 特開昭64-043599
  
• 特開昭58-101197
  
• 特開平4-015298