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J-GLOBAL ID：200903015408695441

加速度センサ

Inventor： マルクス ビーブル ,  トーマス シヤイター ,  ヘルムート クローゼ
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 富村 潔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994082552
Publication number (International publication number)：1994302832
Application date： Mar. 28, 1994
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 大きな機械的長時間安定性を有し百万分の一の最終加速度の範囲まで高精度で測定するための簡単に製造可能な加速度センサを提供する。【構成】 SOI基板上においてシリコン膜1内にばね3に懸吊された質量部分2がマイクロメカニカル要素として形成され、基板の加速度によって生ずる質量部分2の変位を検出して電子回路にて評価することができるようにするために例えば圧電抵抗4のような手段が設けられる。

Claim (excerpt)：

SOI基板上において結晶質シリコン膜(1)内に1つ又は複数個のばね(3)に懸吊された質量部分(2)が形成され、その質量部分(2)の自由な動きのために充分な大きさを有する範囲の絶縁膜が除去され、質量部分(2)の静止状態からの変位を測定する手段と、基板の加速度から生ずる慣性力が前記質量部分(2)に発生した際にその慣性力から前記加速度の大きさを決定する電子回路とが設けられることを特徴とする加速度センサ。

IPC (3)：

H01L 29/84 ,  G01P 15/09 ,  G01P 15/125

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 加速度センサ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-108020   Applicant：日本電装株式会社
• 半導体力学センサ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-273202   Applicant：日本電装株式会社