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J-GLOBAL ID：200903015415464625

ニアフィールド光学顕微装置

Inventor： 河田 聡 ,  松川 真治
Applicant, Patent owner： 河田 聡 ,  株式会社ユニソク
Agent (1)： 前川 幾治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996118369
Publication number (International publication number)：1997281122
Application date： Apr. 15, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：

【要約】【目的】 エバネッセント場を散乱体(好ましくは金属)で散乱させ伝搬光に変換する方式のNSOMにおいて、試料表面の形状の影響を排除し光学的情報のみを観察できるように、プローブと試料表面間の距離を一定に保つSTM制御とは異なる新たな技術を備えるニアフィールド光学顕微装置を提供する。【構成】 金属プローブの先端とは反対側に、プローブの先端をプローブの軸線と直交する方向に振動させるプローブ励振手段を設けると共に、励振されたプローブの振動をモニタしてプローブの軸線方向の位置をフィードバック制御する制御手段を設ける。これにより、試料表面の形状の影響を排除して光学的情報のみを得ることができると共に、試料が非導電性のもの(誘電体結晶表面や生物細胞組織など)でも予備操作なく簡易に超解像観察が可能となる。

Claim (excerpt)：

試料の表面に生成されたエバネッセント場に誘電体または金属からなる先端が尖鋭なプローブを挿入し、前記エバネッセント場を伝搬光に変換して該伝搬光を前記プローブまたは前記試料を走査しながら検出し、前記試料の表面部における情報を観測できるニアフィールド光学顕微装置において、前記プローブの先端とは反対側に、当該プローブの先端をプローブの軸と直交する方向に振動させるプローブ励振手段を設けると共に、前記プローブの振動をモニタしてプローブの軸方向の位置をフィードバック制御する制御手段を設けたことを特徴とするニアフィールド光学顕微装置。

IPC (4)：

G01N 37/00 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/27 ,  G02B 21/00

FI (4)：

G01N 37/00 D ,  G01B 11/30 Z ,  G01N 21/27 C ,  G02B 21/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光ファイバープローブ応用装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-020869   Applicant：株式会社日立製作所