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J-GLOBAL ID:200903015515830831
投影露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993199967
Publication number (International publication number):1995037798
Application date: Jul. 20, 1993
Publication date: Feb. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】 斜入射照明時の原図基板照明光学系の周辺部の収差および投影レンズによる光線の蹴られに起因する被露光基板上における露光フィールド周辺部の照度低下を防止し、照明の均一化を図る。【構成】 第1照明光学系5と原図基板6との間に照度分布調整板40を配置し、これによって露光フィールド周辺部における光強度を大きくし、被露光基板10上の照度分布を均一化する。
Claim (excerpt):
透過性基板上に遮光体もしくはハーフトーン遮光体により形成したパタンを有する原図基板を、中央部光強度が周辺部光強度より弱い2次光源により斜入射照明し、投影レンズを介して被露光基板上に前記原図基板上のパタンの光像を形成し、前記被露光基板上に付した感光性材料を前記パタン形状に露光し、感光させる投影露光装置において、照度分布調整板を設け、この調整板により被露光基板上の照度分布を均一化することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 527
, H01L 21/30 515 D
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