Pat
J-GLOBAL ID:200903015528661150
終点検出のために外部光源を使用した方法及び装置
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
恩田 博宣 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000519287
Publication number (International publication number):2003519433
Application date: Oct. 30, 1998
Publication date: Jun. 17, 2003
Summary:
【要約】基板(104)の表面からフォトレジスト(114)のような特定の材料のストリッピングの終点を検出する方法及び装置。光(134)のビームは基板表面(104)に投射され、蛍光及び/又は反射光の強度(138)は光検出器(142)により特定の波長帯域において測定される。光強度は数値に変換され、基板の適切な排出を判断する制御機構(124)に伝送される。制御機構(124)はストリッピング処理の終了を制御し、ストリッピングチェンバ(102)に対して基板を順次出し入れする基板取扱い装置を制御し得る。
Claim (excerpt):
基板の表面上の材料のストリッピング終点検出方法であって、 光線に晒された材料からの発散光を収集することと、 前記発散光を少なくとも材料を示す1つの波長にフィルタリングすることと、 前記フィルタリングされた光の強度を示す電子信号を生成することとからなる方法。
IPC (7):
H01L 21/3065
, G01N 21/27
, G01N 21/64
, G01N 21/88
, G01N 21/956
, H01L 21/027
, H01L 21/66
FI (7):
G01N 21/27 Z
, G01N 21/64 Z
, G01N 21/88 K
, G01N 21/956 A
, H01L 21/66 L
, H01L 21/302 N
, H01L 21/30 572 A
F-Term (61):
2G043AA03
, 2G043CA07
, 2G043DA05
, 2G043EA01
, 2G043EA13
, 2G043EA14
, 2G043FA01
, 2G043GA04
, 2G043GB03
, 2G043HA01
, 2G043HA09
, 2G043JA03
, 2G043KA03
, 2G043KA05
, 2G043LA01
, 2G043LA02
, 2G043MA01
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BA05
, 2G051CA01
, 2G051CA02
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051CC12
, 2G051DA06
, 2G051DA13
, 2G051EA12
, 2G059AA05
, 2G059BB10
, 2G059BB16
, 2G059DD12
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE07
, 2G059FF01
, 2G059HH03
, 2G059JJ03
, 2G059JJ07
, 2G059JJ11
, 2G059JJ22
, 2G059KK01
, 2G059KK02
, 2G059NN01
, 4M106AA01
, 4M106BA04
, 4M106CA19
, 4M106CA29
, 4M106DH11
, 4M106DH31
, 4M106DJ11
, 5F004AA14
, 5F004BA03
, 5F004BB14
, 5F004BD01
, 5F004CB09
, 5F004CB15
, 5F004DA26
, 5F004DB26
, 5F046MA12
, 5F046MA19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
特開平3-194917
-
特開昭62-274738
-
特開平1-184829
-
特開平1-286422
-
欠陥種別判定装置及びプロセス管理システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-234818
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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