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J-GLOBAL ID：200903015556070957

酸化ケイ素系ポリマーの製造方法および酸化ケイ素系被膜形成用組成物

Inventor： 鈴木 浩 ,  鷲見 章 ,  原田 勝可
Applicant, Patent owner： 東亞合成株式会社
Agent (1)： 小島 清路
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999092028
Publication number (International publication number)：2000286256
Application date： Mar. 31, 1999
Publication date： Oct. 13, 2000
Summary：

【要約】【課題】 有機溶媒に可溶で保存安定性の高い酸化ケイ素系ポリマーの製造方法、およびこのポリマーからなる酸化ケイ素系被膜形成用組成物を提供する。【解決手段】 本発明の製造方法は、下記式(I)に示す構造式で表される化合物を加水分解し縮合させて得た反応液から、沸点90°C以上の低極性溶媒の存在下に水を留去することを特徴とする。本発明の組成物は、本発明の方法により得られた酸化ケイ素系ポリマーからなることを特徴とする。【化1】(ただし、nは0〜10の整数であり、Xは加水分解性基である。)

Claim (excerpt)：

下記式(I)に示す構造式で表される化合物を加水分解し縮合させて得た反応液から、沸点90°C以上の低極性溶媒の存在下に水を留去することを特徴とする酸化ケイ素系ポリマーの製造方法。【化1】(ただし、nは0〜10の整数であり、Xは加水分解性基である。)

IPC (4)：

H01L 21/316 ,  C01B 33/12 ,  C08G 77/04 ,  C09D183/02

FI (4)：

H01L 21/316 G ,  C01B 33/12 C ,  C08G 77/04 ,  C09D183/02

F-Term (29)：

4G072AA28 ,  4G072BB09 ,  4G072EE05 ,  4G072EE06 ,  4G072EE07 ,  4G072GG01 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072LL15 ,  4G072MM01 ,  4G072NN21 ,  4G072PP15 ,  4G072PP17 ,  4G072UU01 ,  4J035BA12 ,  4J035CA02K ,  4J035CA021 ,  4J035EA01 ,  4J035EB01 ,  4J035LA03 ,  4J035LB01 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  5F058BA04 ,  5F058BA09 ,  5F058BC05 ,  5F058BF46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 低誘電率シリカ系被膜形成用塗布液および被膜付基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-213344   Applicant：触媒化成工業株式会社
• 低誘電率シリカ系被膜形成用塗布液および低誘電率被膜付基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-299684   Applicant：触媒化成工業株式会社
• オルガノポリシロキサン樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-037103   Applicant：信越化学工業株式会社
• 特公平5-000428
  
• ポリ(アルコキシシロキサン)の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-020889   Applicant：沖電気工業株式会社
• 硬化性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-131914   Applicant：東レ株式会社