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J-GLOBAL ID：200903015707848688

オゾン注入制御方法

Inventor： 渡辺 哲文
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999256535
Publication number (International publication number)：2001079574
Application date： Sep. 10, 1999
Publication date： Mar. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 オゾン注入率を制御してオゾン濃度を抑制する。【解決手段】 オゾン接触槽4a,4bと滞留槽4c,4dで構成されるオゾン接触池4は次のように制御される。∪V計UVTと温度計WTでオゾン処理原水のUV、水温をそれぞれ連続測定する。連続測定することによって、高精度にオゾン注入率が推定できる。オゾン処理原水UV、水温の原水水質計測信号と溶存オゾン濃度一定制御設定値DO3SPが調節器CTRL1に入力信号として与えられ、オゾン注入率設定値DSPが決定される。その後、調節器CTRL2では、FT1からのオゾン処理原水流量、FT2からの注入オゾンガス流量、CTRL1で決定されたDSPから注入オゾン濃度設定値O3CSPが決定される。そして、オゾン接触池4の注入オゾン濃度が、CTRL2で決定された注入オゾン濃度設定値O3CSPになるように制御される。

Claim (excerpt)：

被処理水をオゾン接触池でオゾン注入処理する際に、オゾン接触池の溶存オゾン濃度が一定となるようにオゾン注入率を制御する方法において、 前記被処理水の紫外線吸光度と水温を計測した後、前記オゾン注入率D(mg/L)を、下記式に被処理水の紫外線吸光度A(abs/50mm)、被処理水の水温T(°C)と溶存オゾン濃度一定制御設定値C(mg/L)を代入して決定することを特徴とするオゾン注入制御方法。D=a・A+b・T+c・C+d但し、a,b,c,dは定数

IPC (10)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 560 ,  G01N 21/33

FI (11)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 C ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 A ,  C02F 1/50 550 C ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/50 560 B ,  C02F 1/50 560 Z ,  G01N 21/33

F-Term (25)：

2G059AA01 ,  2G059BB05 ,  2G059CC08 ,  2G059EE01 ,  2G059HH03 ,  2G059KK01 ,  2G059NN02 ,  4D024AA05 ,  4D024AB04 ,  4D024BA02 ,  4D024BC01 ,  4D024DA04 ,  4D024DB03 ,  4D024DB12 ,  4D024DB21 ,  4D024DB24 ,  4D050AA03 ,  4D050AB06 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• オゾン処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-052715   Applicant：株式会社明電舎
• オゾン注入制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-012191   Applicant：株式会社明電舎