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J-GLOBAL ID：200903015914498450

フォトレジストフィルム

Inventor：
日向 淳悦

About 日向 淳悦

, 
佐藤 弘章

About 佐藤 弘章


Applicant, Patent owner：
日本合成化学工業株式会社

About 日本合成化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997279696
Publication number (International publication number)：1999102067
Application date： Sep. 26, 1997
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 感度、解像度、密着性、耐エッチング性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供する。【解決手段】 支持体フィルム、感光性樹脂組成物層、保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルムのヘイズ値が0.01〜1.5%であり、かつ、感光性樹脂組成物層が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)光重合開始剤からなり、(c)として、(a)と(b)の総重量100重量部に対して(c-1)N-アリール-α-アミノ酸系化合物を0.01〜1.0重量部、(c-2)N,N′-テトラアルキル-4,4′-ジアミノベンゾフェノン系化合物を0.01〜0.5重量部、(c-3)ロフィン二量体を0.5〜6.0重量部、(c-4)下に示した化合物を0.1〜10重量部含有してなるフォトレジストフィルム。(式中、R1、R2は水素又はアルキル基で、それらは同一でも、互いに異なっていてもよい。)
Claim (excerpt)：
支持体フィルム(I)、感光性樹脂組成物層(II)、保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)のヘイズ値が0.01〜1.5%であり、かつ、感光性樹脂組成物層(II)が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)光重合開始剤からなり、(c)光重合開始剤として、(a)と(b)の総重量100重量部に対して(c-1)N-アリール-α-アミノ酸系化合物を0.01〜1.0重量部、(c-2)N,N′-テトラアルキル-4,4′-ジアミノベンゾフェノン系化合物を0.01〜0.5重量部、(c-3)ロフィン二量体を0.5〜6.0重量部、(c-4)下記?@式で示される化合物を0.1〜10重量部含有してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。【化1】(ここで、R1、R2は水素又はアルキル基で、それらは同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。)
IPC (5)：
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032 502 ,  H05K 3/06
FI (5)：
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032 502 ,  H05K 3/06 J
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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