成膜装置用高周波電源装置、位相調整器および放電状態変動量モニタ

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：富田和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998266898
Publication number (International publication number)：1999172436
Application date： Sep. 22, 1989
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】設定値を成膜の過程に応じて、最適に設定することにより、その過程ごとに、最適な制御を行える成膜装置用高周波電源装置、位相調整器および放電状態変動量モニタを提供する。【解決手段】真空容器1内に設けられた対向電極2、3にそれぞれ高周波電力を供給することにより放電状態を生成して成膜を行う成膜装置において用いられる位相調整器10である。対向電極に2、3それぞれ接続されて、各電極2、3の電圧を検出するモニタセンサ20と、モニタセンサ20の検出出力に基づいて、電極2、3の電圧位相差を検出する手段、および、電圧位相差の設定値を予めプログラミングしておき、このプログラムにしたがって、前記設定値と前記検出された位相差との偏差を小さくするように前記高周波電力の位相の相対的変位を制御する高周波電力の位相を相対的に変位させる手段を有する。

Claim (excerpt)：

成膜装置の真空容器内に設けられた二つの対向する電極にそれぞれ高周波電力を供給して、放電状態を生成させて成膜を行わせる高周波電源装置であって、第1の高周波電源および第2の高周波電源と、前記第1および第2の高周波電源の出力の位相差を調整する位相調整器とを備え、前記位相調整器は、前記電極のそれぞれと接続して、対応する電極の電位変動を電圧の形で検出する手段と、前記電極のそれぞれに供給される高周波電力の位相差を設定するための外部設定器と、前記各電極について検出された電圧を比較して位相差を検出し、該位相差と前記外部設定器で設定される位相差との偏差を求め、前記第1の高周波電源および第2の高周波電源の出力の位相差を変化させる手段とを有することを特徴とする、成膜装置用高周波電源装置。

IPC (4)：

C23C 14/54 , C23C 14/34 , C23C 14/40 , H05H 1/46

FI (4)：

C23C 14/54 B , C23C 14/34 U , C23C 14/40 , H05H 1/46 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開昭62-004864
特開昭60-029467
特開昭59-205477

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Cited by examiner (4)

成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-155717 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭60-029467
特開昭59-205477

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