Pat
J-GLOBAL ID：200903016463463289

整髪剤用基剤

Inventor：
土橋 浩二

About 土橋 浩二

, 
内山 雄二朗

About 内山 雄二朗


Applicant, Patent owner：
大阪有機化学工業株式会社

About 大阪有機化学工業株式会社


Agent (1)： 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999256261
Publication number (International publication number)：2001081018
Application date： Sep. 09, 1999
Publication date： Mar. 27, 2001
Summary：
【要約】【課題】 毛髪に対する付着性にすぐれ、フレーキング現象を起こさず、毛髪にすぐれた光沢、しなやかさおよびとくにすぐれた滑り感を付与し、かつ良好なセット保持力を有する整髪剤用基剤を提供すること。【解決手段】 ポリシロキサン化合物の存在下に、一般式(I):【化9】(式中、Xは酸素原子またはNH基、R1は水素原子またはメチル基、R2は炭素数2〜3のアルキレン基を示す)で表わされるモノマー(A)およびエチレン性不飽和カルボン酸エステル(B)を含有したモノマー成分をブロック共重合させて得られたブロック共重合体からなる整髪剤用基剤。
Claim (excerpt)：
ポリシロキサン化合物の存在下に、一般式(I):【化1】(式中、Xは酸素原子またはNH基、R1は水素原子またはメチル基、R2は炭素数2〜3のアルキレン基を示す)で表わされるモノマー(A)およびエチレン性不飽和カルボン酸エステル(B)を含有したモノマー成分をブロック共重合させて得られたブロック共重合体からなる整髪剤用基剤。
IPC (3)：
A61K 7/11 ,  C08F283/12 ,  C08F293/00
FI (3)：
A61K 7/11 ,  C08F283/12 ,  C08F293/00
F-Term (18)：
4C083AC102 ,  4C083AC172 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083EE07 ,  4C083EE25 ,  4C083FF01 ,  4J026AB44 ,  4J026BA27 ,  4J026BA39 ,  4J026HA11 ,  4J026HA20 ,  4J026HA22 ,  4J026HA46
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM