Pat
J-GLOBAL ID:200903016530319627

紫外線光学用石英ガラスの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 木下 茂
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999235257
Publication number (International publication number):2001058835
Application date: Aug. 23, 1999
Publication date: Mar. 06, 2001
Summary:
【要約】【課題】 ステッパー等の半導体製造用露光機の光学用部材として使用される合成石英ガラスであって、エキシマレーザなどの短波長紫外線を照射したときに、通常、光照射損傷を受けて発生する650nm付近の可視域蛍光が低減された紫外線光学用石英ガラスを、簡便且つ安全な方法で処理し、製造する方法を提供する。【解決手段】 合成石英ガラスを、炭素の存在下水蒸気雰囲気中で、または炭化水素基を持つ有機物質を含む非酸化性雰囲気中で、該石英ガラスの歪点以上の温度に於いて構造決定温度に到達するまでの時間(緩和時間)以上の時間、熱処理することにより紫外線照射による可視域の蛍光発生を防止する。
Claim (excerpt):
合成石英ガラスを、炭素の存在下水蒸気雰囲気中で、又は、炭化水素基を持つ有機物質を含む非酸化性雰囲気中で、該石英ガラスの歪点以上の温度に於いて、構造決定温度に到達するまでの時間(緩和時間)以上の時間、熱処理することを特徴とする紫外線光学用石英ガラスの製造方法。
IPC (2):
C03B 8/04 ,  C03B 20/00
FI (2):
C03B 8/04 P ,  C03B 20/00 E
F-Term (3):
4G014AH00 ,  4G014AH15 ,  4G014AH23
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 特開平3-247522
  • 特開平2-064645
  • 光学用合成石英ガラス
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-360334   Applicant:日本石英硝子株式会社, 山口日本石英株式会社
Show all

Return to Previous Page