高分子光導波路および高分子光導波路回路、およびそれらの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：谷義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996208612
Publication number (International publication number)：1998048441
Application date： Aug. 07, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】異種の高分子膜を自由に積層してなる高分子光導波路および高分子光導波路回路を提供するとともに、それらの製造において、製膜時の下層の高分子膜とのインタミキシングや熱処理温度の制約を受けずに、異種の高分子膜を自由に積層することができ、高分子材料の特徴である材料の多様性を十分に生かすことのできる高分子光導波路および高分子光導波路回路の製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも一つの高分子膜層上に、該高分子膜を溶解したり、膜の熱処理に該高分子膜の耐熱温度より高い熱処理を必要とする別の高分子材料を積層膜として用いることによって、換言すれば、下層の高分子膜あるいは積層する高分子膜のガラス転移特性を利用して、特性の異なる高分子膜を積層する。

Claim (excerpt)：

有機高分子材料を多層に積層した高分子光導波路であって、該光導波路を構成する多層高分子膜層の少なくとも1つの層のガラス転移温度が、該層と直接接する下部高分子膜層のガラス転移温度より高いことを特徴とする高分子光導波路。

IPC (3)：

G02B 6/12 , G02B 1/04 , G02B 6/13

FI (3)：

G02B 6/12 N , G02B 1/04 , G02B 6/12 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平4-258903
導波形デバイス及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-280621 Applicant：株式会社豊田中央研究所
高分子光導波路及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-071282 Applicant：日本電信電話株式会社

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