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J-GLOBAL ID：200903016643599146

反射防止膜およびそれを配置した表示装置

Inventor：
塚田 芳久

About 塚田 芳久

, 
安田 知一

About 安田 知一


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998058628
Publication number (International publication number)：1999258403
Application date： Mar. 10, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：
【要約】【課題】塗布組成物が経時安定性に優れ、それによって得られた反射防止膜は膜強度、耐久性、耐汚れ付着性、耐熱性に優れたものである反射防止膜を提供する。【解決手段】低屈折率層が、(a) 一般式Si(OR1)4(式中R1 は炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜4のアシル基)で表されるアルコキシシランおよび/または(b) 一般式R2Si(OR3)3(式中、R2 は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基またはアリール基、R3 は前記R1 に同義の基)で表されるオルガノシラン、および/または(c) 一般式R42Si(OR5)2 (式中、R4 は前記R2 に同義の基、R5 は前記R1 に同義の基)で表されるオルガノシラン、および(d)下記一般式(A)で表されるシラノール末端ポリシロキサンの加水分解物および/またはその部分縮合物を含有する組成物を塗設して形成された反射防止膜。【化1】
Claim (excerpt)：
低屈折率層が、(a) 一般式Si(OR1)4(式中R1 は炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜4のアシル基を表す)で表されるアルコキシシランおよび/または(b) 一般式R2Si(OR3)3(式中、R2 は炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表し、R3 は前記R1 に同義の基を表す)で表されるオルガノシラン、および/または(c) 一般式R42Si(OR5)2 (式中、R4 は前記R2 に同義の基、R5 は前記R1 に同義の基を表す)で表されるオルガノシラン、および(d)下記一般式(A)で表されるシラノール末端ポリシロキサンの加水分解物および/またはその部分縮合物を含有する組成物を塗設して形成されたものであることを特徴とする反射防止膜。【化1】式中、R6は前記R2 に同義の基を表し、nは繰り返しを示し、数平均分子量が300〜50000である。
IPC (3)：
G02B 1/11 ,  C09D183/06 ,  G02F 1/1335
FI (3)：
G02B 1/10 A ,  C09D183/06 ,  G02F 1/1335
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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