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J-GLOBAL ID：200903016701520601

誘導結合プラズマ質量分析装置及び方法

Inventor：
阪田 健一

About 阪田 健一

, 
山中 一夫

About 山中 一夫


Applicant, Patent owner：
横河アナリティカルシステムズ株式会社

About 横河アナリティカルシステムズ株式会社


Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999370334
Publication number (International publication number)：2001185073
Application date： Dec. 27, 1999
Publication date： Jul. 06, 2001
Summary：
【要約】【課題】 プラズマ面の位置及び形状を制御可能で、マトリックス効果による減感又は増感を低減可能なICP-MS装置及び方法の提供。【解決手段】 ICP-MS装置100のインタフェース150は、スキマーコーン153の背後に順次配置される第1の引き出し電極156及び第2の引き出し電極157を含む。第1のイオン引き出し電極156にはプラズマと同程度の正の電圧と負の電圧との間で切り換え可能な電圧が印加され、第2のイオン引き出し電極157には負の電圧が印加される。
Claim (excerpt)：
プラズマを発生するための手段と、試料を前記プラズマに導入して被分析物のイオンを形成するための手段と、前記被分析物のイオンを前記プラズマから取り入れるための、スキマーコーンを含むインタフェース手段と、取り入れられた前記被分析物のイオンを移送するためのイオンレンズ手段と、及び移送された前記被分析物のイオンを分離及び検出するための測定手段とからなる誘導結合プラズマ質量分析装置であって、前記インタフェース手段が前記スキマーコーンの背後に順次配置される第1及び第2のイオン引き出し電極を少なくとも含み、前記第1のイオン引き出し電極に正及び負の間で切り換え可能な電圧が印加され、及び前記第2のイオン引き出し電極に負の電圧が印加されることを特徴とする誘導結合プラズマ質量分析装置。
IPC (2)：
H01J 49/10 ,  G01N 27/62
FI (2)：
H01J 49/10 ,  G01N 27/62 E
F-Term (6)：
5C038GG09 ,  5C038GH11 ,  5C038GH13 ,  5C038GH15 ,  5C038JJ02 ,  5C038JJ11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
  • 誘導結合プラズマ質量分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-175427   Applicant：横河電機株式会社
  • 特表平5-500286
  • 特開平2-015553
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Cited by examiner (13)
  • 誘導結合プラズマ質量分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-175427   Applicant：横河電機株式会社
  • 特表平5-500286
  • 特表平5-500286
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (4)
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