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J-GLOBAL ID:200903016793436881

超微粒子製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001259163
Publication number (International publication number):2003062449
Application date: Aug. 29, 2001
Publication date: Mar. 04, 2003
Summary:
【要約】【課題】 均一な粒子径を有する超微粒子を製造することができる超微粒子製造装置を提供することである。【解決手段】 この超微粒子製造装置は、超微粒子発生装置2を構成する、超微粒子を形成する物質が溶解した溶液を気体により破砕微粒化して溶液の微粒子を発生させる微粒子発生ノズル及び前記微粒子発生ノズルにより発生させた微粒子の中から均一な粒子径を有する超微粒子を分別する分別容器と、前記分別容器において微粒子から分別され吐出される超微粒子を乾燥させる乾燥装置4とを備える。
Claim (excerpt):
超微粒子を形成する物質が溶解した溶液を気体により破砕微粒化して溶液の微粒子を発生させる微粒子発生ノズルと、前記微粒子発生ノズルにより発生させた微粒子の中から均一な粒子径を有する超微粒子を分別する分別容器と、前記分別容器において微粒子から分別され吐出される超微粒子を乾燥させる乾燥装置とを備えることを特徴とする超微粒子製造装置。
IPC (6):
B01J 19/00 ,  B02C 19/06 ,  B02C 23/12 ,  B02C 25/00 ,  B07B 1/00 ,  B07B 7/06
FI (6):
B01J 19/00 N ,  B02C 19/06 B ,  B02C 23/12 ,  B02C 25/00 C ,  B07B 1/00 B ,  B07B 7/06
F-Term (29):
4D021AA02 ,  4D021CA01 ,  4D021DC01 ,  4D021DC02 ,  4D021EA10 ,  4D021EB03 ,  4D067CA02 ,  4D067EE07 ,  4D067EE12 ,  4D067EE19 ,  4D067EE22 ,  4D067EE32 ,  4D067FF02 ,  4D067FF15 ,  4D067GA20 ,  4G075AA27 ,  4G075AA52 ,  4G075AA61 ,  4G075BB02 ,  4G075BB05 ,  4G075BD03 ,  4G075BD04 ,  4G075CA12 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4G075EC10 ,  4G075FA02 ,  4G075FC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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