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J-GLOBAL ID：200903016797263736

スペクトル干渉に基づく光学・トモグラフィ-および光学表面プロファイル測定装置

Inventor： アドルフ フリードリッヒ フェルヒェル
Applicant, Patent owner： カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (1)： 松田 省躬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999082817
Publication number (International publication number)：1999325849
Application date： Mar. 26, 1999
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】透明、一部透明および不透明物体に対してスペクトル干渉に基づくOCT法により光学表面プロファイル測定および光学断面像撮影を解像力の低下なく行うための装置【解決手段】参照光を、不連続な相転位の作用下で、測定したスペクトル強度から波長スペクトルの相を測定するのに利用する

Claim (excerpt)：

測定腕が、例えば回転式転向鏡により物体を走査し、参照腕に参照鏡が設置されており、さらにその出口では、計測腕および参照腕からの光束の干渉によって現れる光の強度が、分光器で分析もされるという干渉器が利用されていて、参照腕には参照光光束位相を不連続な値で段階的に変える装置が設置されていることを特徴とする光学干渉断層撮影および光学干渉局所記載のためのスペクトル干渉に基づく光学・トモグラフィーおよび光学表面プロファイル測定装置。

IPC (3)：

G01B 11/24 ,  G01B 9/02 ,  G01J 3/45

FI (3)：

G01B 11/24 D ,  G01B 9/02 ,  G01J 3/45

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 光学的干渉断層撮影画像のコントラスト強調のための 方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-137954   Applicant：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• 特表平6-508205