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J-GLOBAL ID：200903070080739358

光学的干渉断層撮影画像のコントラスト強調のための 方法およびその装置

Inventor： アドルフ フリードリッヒ フェルヒェル
Applicant, Patent owner： カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (1)： 松田 省躬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997137954
Publication number (International publication number)：1998099337
Application date： May. 14, 1997
Publication date： Apr. 21, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 医学において使用する干渉断層撮影法において画像のコントラストの改良を可能にする方法及び装置を提供する。【解決手段】 対象物を走査する干渉測定用測定光線が、光線分割で得られる二重光線であって、その二つの干渉性部分光束が、光線分割から対象物まで、及び光検出器へ戻るまで、合計としてλ/2又はそれの奇数倍の光路差があり、均質な対象物構造では、両方の対象物点から戻る光束が共に断層撮影干渉計内で干渉する部分干渉光束と部分干渉-干渉計による対象物内部の光反射位置の深さ位置の検出とを用いる対象物の走査による干渉断層撮影画像のコントラスト強調のための方法、及び両方の干渉測定部分光束に対する光路が二倍の経路でλ/2またはその奇数倍だけ異なるように間隔が離れている光線分割面と鏡面を有する光線分割器-反射鏡13を用いて、波面分割により対象物を照射する両方の干渉測定部分光束が作られる干渉断層撮影画像のコントラスト強調のための装置。

Claim (excerpt)：

対象物を走査する干渉測定用光線が光線分割で得られる二重光線であって、その二つの干渉性部分光線が光線分割面から対象物までおよび部分干渉-干渉計の光検出器へ戻るまでの合計がλ/2またはそれの奇数倍の光路差があり、均質な対象物構造では両方の対象物点から戻る光束が共に断層撮影干渉計内で弱め合い干渉することを特徴とする、部分干渉光線と部分干渉-干渉計による対象物内部の光反射位置の深さ位置の検出とを用いる対象物の走査による干渉断層撮影画像のコントラスト強調のための方法。

IPC (3)：

A61B 10/00 ,  G01N 21/17 ,  G01N 21/45

FI (3)：

A61B 10/00 E ,  G01N 21/17 A ,  G01N 21/45 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 断層像撮影装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-057137   Applicant：株式会社生体光情報研究所