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J-GLOBAL ID：200903016876965762

複屈折測定方法及びその装置

Inventor：
森田 展弘

About 森田 展弘


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Agent (1)： 柏木 慎史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999083007
Publication number (International publication number)：2000275142
Application date： Mar. 26, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：
【要約】【課題】 被検物表面における汚れ等のノイズの影響を受けにくい複屈折の測定が可能な複屈折測定方法を提供する。【解決手段】 ほぼ円偏光を被検物1に対して照射し、この被検物1を透過した光束を検光子7のみを介して受光手段9にて受光するとともに検光子7を回転させたときに得られる光強度変化より求めた被検物透過光の偏光情報と、被検物1を透過した光束を移相子17と検光子7とを介して受光手段9にて受光するとともに検光子7を回転させたときに得られる光強度変化より求めた被検物透過光の偏光情報との、両偏光情報に基づき被検物1の複屈折を求めるようにした。
Claim (excerpt)：
ほぼ円偏光を被検物に対して照射し、前記被検物を透過した光束を検光子のみを介して受光手段により受光するとともに前記検光子を回転させたときに得られる光強度変化より求めた被検物透過光の偏光情報と、前記被検物を透過した光束を移相子と前記検光子とを介して前記受光手段により受光するとともに前記検光子を回転させたときに得られる光強度変化より求めた被検物透過光の偏光情報との、両偏光情報に基づき前記被検物の複屈折を求めるようにした複屈折測定方法。
IPC (2)：
G01M 11/02 ,  G01N 21/23
FI (2)：
G01M 11/02 B ,  G01N 21/23
F-Term (12)：
2G059AA02 ,  2G059BB08 ,  2G059EE05 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G086FF06 ,  2G086HH07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • 偏光及び複屈折測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-264261   Applicant：旭光学工業株式会社
  • 複屈折測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-257718   Applicant：王子製紙株式会社
  • 特開平4-058138
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Cited by examiner (2)
  • 偏光及び複屈折測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-264261   Applicant：旭光学工業株式会社
  • 複屈折測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-257718   Applicant：王子製紙株式会社

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