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J-GLOBAL ID：200903016893122710

拡大被写界深度光学システム

Inventor： キャシェイ ダブリュ. トーマス ジュニア ,  ドウスキー エドワード アール. ジュニア
Applicant, Patent owner： ユニバーシティ テクノロジー コーポレイション
Agent (1)： 谷 義一 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000547511
Publication number (International publication number)：2002513951
Application date： Apr. 30, 1999
Publication date： May. 14, 2002
Summary：

【要約】非干渉光学システムの被写界深度を増大し、波長依存性を低減するシステム(100,110,150,160)は、非干渉システムに対して特定な目的の光学マスク(20,120,124,132)を組み込んでいる。光学マスクは、光学伝達関数が焦点の合った位置からある程度の範囲内で本質的に一定のままとなるように設計されている。結果的中間画像の信号処理は、マスクの光学伝達変調効果を打ち消し、その結果、増大した被写界深度に亙って焦点の合った画像をもたらす。概ねマスクは、光学システムの開口絞りまたは開口絞りの画像の場所またはその近傍に配備される。好ましくは、マスクは位相のみを変調し、光の振幅は変調しないが、振幅を関連するフィルタなどによって変えることが可能である。マスクは受動測距システムの有効範囲を増大するのに使用できる。

Claim (excerpt)：

非干渉光を処理する光学システムの被写界深度を増大する装置であって、前記光学システムは光学伝達関数を有し、前記光学システムは物体から与えられる非干渉光を像平面上に焦点を結ばせる手段を有し、かつ像平面に入射した光像の電気的描写を記憶する記憶手段を有し、 物体と記憶手段との間に位置する光学マスク - 前記マスクは光学システムの光学伝達関数を変調するように作成されて配備され、その結果、変調光学伝達関数が未変調光学伝達関数によって与えられるよりも広い物体距離範囲に亙って物体と光学システムとの間の未知の距離に実質的に依存しないようになり、前記マスクは、前記マスクを介して伝達される光の位相に作用することにより、実質的に光学伝達関数に対する前記変調に作用する - と、 マスクによりなされた光学伝達関数の変調を逆に行うことによって、記憶された光像の電気的描写を復元する被写界深度後処理手段とを具えた装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 拡大された被写界深度を有する光学システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-523771   Applicant：ザ・リジェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・コロラド