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J-GLOBAL ID：200903016940014432

FPD用保護膜の製造方法及び保護膜並びにこれを用いたFPD

Inventor：
桜井 英章

About 桜井 英章

, 
豊口 銀二郎

About 豊口 銀二郎

, 
黒光 祥郎

About 黒光 祥郎


Applicant, Patent owner：
三菱マテリアル株式会社

About 三菱マテリアル株式会社


Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  江口 昭彦 ,  杉浦 秀幸 ,  村山 靖彦 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003067068
Publication number (International publication number)：2004281081
Application date： Mar. 12, 2003
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：
【課題】膜本体のMgO等が大気中のCO2ガスやH2Oガスと反応することにより、MgO等のFPDに有害なMgCO3やMg(OH)2等へ変質してしまうことを防止する。【解決手段】基板の表面にMgO、CaO、SrO、BaO、アルカリ土類複合酸化物もしくは希土類酸化物、またはアルカリ土類酸化物および希土類酸化物の複合酸化物のいずれかにより形成された膜本体を形成する工程と、膜本体をフッ素プラズマにて表面処理することにより膜本体の表面にフッ化物層を形成する工程と、を有する。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
基板の表面にMgO、CaO、SrO、BaO、アルカリ土類複合酸化物もしくは希土類酸化物、またはアルカリ土類酸化物および希土類酸化物の複合酸化物のいずれかにより形成された膜本体を形成する工程と、 前記膜本体をフッ素プラズマにて表面処理することにより前記膜本体の表面にフッ化物層を形成する工程と、を有することを特徴とするFPD用保護膜の製造方法。
IPC (10)：
H01J9/02 ,  C23C14/08 ,  C23C14/30 ,  C23C14/34 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  G02B1/10 ,  G02F1/1333 ,  H01J11/02
FI (12)：
H01J9/02 F ,  C23C14/08 J ,  C23C14/08 K ,  C23C14/30 Z ,  C23C14/34 N ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1333 505 ,  H01J11/02 B ,  G02B1/10 Z
F-Term (38)：
2H089HA36 ,  2H089JA07 ,  2H089QA07 ,  2H089TA05 ,  2H090HB06X ,  2H090HC03 ,  2H090HC16 ,  2K009CC03 ,  2K009CC26 ,  2K009DD02 ,  2K009DD04 ,  2K009EE00 ,  4K029BA43 ,  4K029BA50 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DB20 ,  4K030AA04 ,  4K030BA35 ,  4K030DA08 ,  4K030FA01 ,  4K030HA04 ,  4K030JA09 ,  4K030LA01 ,  4K030LA18 ,  5C027AA07 ,  5C040FA01 ,  5C040FA04 ,  5C040FA09 ,  5C040GB03 ,  5C040GB14 ,  5C040GE02 ,  5C040GE08 ,  5C040GE09 ,  5C040JA07 ,  5C040JA22 ,  5C040MA10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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