Pat

J-GLOBAL ID：200903016970478697

消石灰水溶液調製装置

Inventor： 関谷 透 ,  横田 治雄 ,  新田 文枝
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 大澤 斌 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998130310
Publication number (International publication number)：1999322328
Application date： May. 13, 1998
Publication date： Nov. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 消石灰水溶液を安定して調製することができる消石灰水溶液調製装置を提供する。【解決手段】 本消石灰水溶液調製装置は、水と消石灰とを混合して得た消石灰スラリーを槽希釈方式で希釈して消石灰水溶液を生成する消石灰水溶液調製装置である。本装置の要部である希釈槽12は、消石灰スラリーを水で希釈する槽であって、消石灰スラリーを導入するスラリー管18と、水を注入する注水管20とが、それぞれ独立して接続されている。スラリー管の出口開口と注水管の出口開口とが、相互に接近し、対面する位置にあり、かつスラリー管の出口及び注水管の出口の上方にバッフルプレート22が設けてあって、スラリー管から流出する消石灰スラリー流と注水管から流出する水流とが、相互に衝突して非機械的水流攪拌を行い、消石灰スラリーと水とを攪拌、混合する。

Claim (excerpt)：

水と消石灰とを混合して得た消石灰スラリーを槽希釈方式により希釈して消石灰水溶液を生成する消石灰水溶液調製装置であって、消石灰スラリーを水で希釈して消石灰水溶液を調製する希釈槽を備え、希釈槽には、消石灰スラリーを導入するスラリー管と、水を注入する注水管とが、それぞれ、独立して接続され、消石灰スラリーと水とは、希釈槽内で、機械的攪拌により、又は非機械的水流攪拌により攪拌、混合されることを特徴とする消石灰水溶液調製装置。

IPC (5)：

C01F 11/02 ,  C02F 1/66 510 ,  C02F 1/66 521 ,  C02F 1/66 522 ,  C02F 1/66 530

FI (5)：

C01F 11/02 Z ,  C02F 1/66 510 C ,  C02F 1/66 521 D ,  C02F 1/66 522 B ,  C02F 1/66 530 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-310285
  
• 活性炭スラリー製造装置および活性炭スラリーの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-115443   Applicant：呉羽化学工業株式会社, 呉羽エンジニアリング株式会社
• ゲル状物質を連続溶解する方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-251062   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特開平4-156995