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J-GLOBAL ID：200903016974036672

低抵抗n型および低抵抗p型単結晶AlN薄膜の合成法

Inventor：
吉田 博

About 吉田 博


Applicant, Patent owner：
科学技術振興事業団

About 科学技術振興事業団


Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998208612
Publication number (International publication number)：2000031059
Application date： Jul. 07, 1998
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 低抵抗n型および低抵抗p型単結晶AlN薄膜の製造。【解決手段】 原子状AlのビームとN2 を電磁波で励起または分解した原子状もしくは分子状Nを半導体基板上で急冷成長することにより単結晶AlN薄膜を成長させる際に、n型ドーパントとp型ドーパントを原子状ビームにして同時にドーピングすることにより結晶中にn型のドーパントとp型のドーパントの対を形成させて低抵抗n型および低抵抗p型単結晶AlN薄膜を合成する。
Claim (excerpt)：
原子状AlのビームとN2 を電磁波で励起または分解した原子状もしくは分子状Nを半導体基板上で急冷成長することにより単結晶AlN薄膜を成長させる際に、n型ドーパントとp型ドーパントを原子状ビームにして同時にドーピングすることにより結晶中にn型のドーパントとp型のドーパントの対を形成させて低抵抗n型および低抵抗p型単結晶AlN薄膜を合成する方法。
IPC (2)：
H01L 21/203 ,  C30B 29/38
FI (2)：
H01L 21/203 M ,  C30B 29/38 C
F-Term (25)：
4G077AA03 ,  4G077BE13 ,  4G077DA05 ,  4G077DB08 ,  4G077EB01 ,  4G077EB02 ,  4G077ED06 ,  4G077EJ01 ,  4G077EJ04 ,  4G077FE11 ,  4G077FE16 ,  4G077HA06 ,  5F103AA04 ,  5F103BB06 ,  5F103BB09 ,  5F103DD01 ,  5F103HH04 ,  5F103JJ01 ,  5F103JJ03 ,  5F103KK07 ,  5F103KK10 ,  5F103LL01 ,  5F103NN01 ,  5F103NN06 ,  5F103RR05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 化学気相堆積装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-322507   Applicant：日新電機株式会社, 日本碍子株式会社
  • 特開平2-105408
  • 特開平4-346218
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Cited by examiner (1)
  • 化学気相堆積装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-322507   Applicant：日新電機株式会社, 日本碍子株式会社

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