Pat

J-GLOBAL ID：200903052073412850

化学気相堆積装置

Inventor： 西川 公人 ,  中村 幸則 ,  柴田 智彦
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社 ,  日本碍子株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996322507
Publication number (International publication number)：1998167884
Application date： Dec. 03, 1996
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】高温条件下においても、均一な膜厚で良質な単結晶膜を形成できる化学気相堆積装置を提供する。【解決手段】成膜すべき基板(1)に向けて原料ガスを供給するノズル(6)の昇温を防止する手段を設ける。具体的には、ノズルに冷却手段(7)を設け、ノズルの昇温を防止する。さらに、加熱手段(3)の周囲に赤外光を遮蔽する遮蔽体(4)を設ける。

Claim (excerpt)：

成膜されるべき基板を支持するサセプタと、基板を所定の温度に加熱する加熱手段と、前記基板に向けて原料ガスを放出する出口開口を有し、基板の膜形成すべき表面にほぼ平行な方向から基板に向けて原料ガスを供給するノズルと、前記加熱手段から放射される赤外線を遮蔽する遮蔽手段と、前記ノズルの出口開口付近に配置され、ノズルを冷却する冷却手段とを具えることを特徴とする化学気相堆積装置。

IPC (3)：

C30B 25/10 ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/205

FI (3)：

C30B 25/10 ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/205