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J-GLOBAL ID：200903017057298036

直鎖状高分子を有する低摩擦ハイドロゲルおよびその製造方法

Inventor： 長田 義仁 ,  グン チェンピン
Applicant, Patent owner： 北海道ティー・エル・オー株式会社
Agent (1)： 葛和 清司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001013617
Publication number (International publication number)：2002212452
Application date： Jan. 22, 2001
Publication date： Jul. 31, 2002
Summary：

【要約】【解決すべき課題】これまでにない低摩擦な材料を提供する。【解決手段】高分子ゲルに対し、直鎖状高分子が混合されているか、またはグラフト重合されてなる低摩擦ハイドロゲル。

Claim (excerpt)：

高分子ゲルに対し、直鎖状高分子が混合されているか、またはグラフト重合されてなる低摩擦ハイドロゲル。

IPC (5)：

C08L101/14 ,  C08F 2/44 ,  C08F291/00 ,  C08G 81/00 ,  C08J 5/16 CER

FI (5)：

C08L101/14 ,  C08F 2/44 C ,  C08F291/00 ,  C08G 81/00 ,  C08J 5/16 CER

F-Term (107)：

4F071AA08 ,  4F071AA09 ,  4F071AA22 ,  4F071AA22X ,  4F071AA29 ,  4F071AA29X ,  4F071AA32 ,  4F071AA32X ,  4F071AA33 ,  4F071AA33X ,  4F071AA37 ,  4F071AA37X ,  4F071AA39 ,  4F071AA39X ,  4F071AA42A ,  4F071AE02A ,  4F071AG05 ,  4F071AG15 ,  4F071AH18 ,  4F071AH19 ,  4F071EA06 ,  4J002AB02W ,  4J002AB05W ,  4J002AD01W ,  4J002AD03W ,  4J002BC12W ,  4J002BC12X ,  4J002BE02W ,  4J002BE02X ,  4J002BG01W ,  4J002BG01X ,  4J002BG04W ,  4J002BG04X ,  4J002BG05W ,  4J002BG05X ,  4J002BG06W ,  4J002BG06X ,  4J002BG07W ,  4J002BG07X ,  4J002BG13W ,  4J002BG13X ,  4J002BJ00W ,  4J002BJ00X ,  4J002BQ00W ,  4J002BQ00X ,  4J002CL02W ,  4J002CM01W ,  4J002GB01 ,  4J002GB02 ,  4J002GM05 ,  4J011CA01 ,  4J011PA53 ,  4J011PA55 ,  4J011PA63 ,  4J011PA65 ,  4J011PA67 ,  4J011PA69 ,  4J011PA74 ,  4J011PA75 ,  4J011PB19 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02 ,  4J026AA01 ,  4J026AA02 ,  4J026AA07 ,  4J026AA19 ,  4J026AA20 ,  4J026AA43 ,  4J026AA44 ,  4J026AA45 ,  4J026AA48 ,  4J026AA50 ,  4J026AA61 ,  4J026AA62 ,  4J026AA63 ,  4J026AC31 ,  4J026AC35 ,  4J026BA08 ,  4J026BA25 ,  4J026BA26 ,  4J026BA27 ,  4J026BA28 ,  4J026BA32 ,  4J026BA39 ,  4J026BA40 ,  4J026BA41 ,  4J026BB09 ,  4J026DA05 ,  4J026DB36 ,  4J026FA09 ,  4J026GA06 ,  4J031AA02 ,  4J031AA03 ,  4J031AA04 ,  4J031AA15 ,  4J031AA19 ,  4J031AA20 ,  4J031AA22 ,  4J031AA25 ,  4J031AA26 ,  4J031AA57 ,  4J031AB01 ,  4J031AC04 ,  4J031AD01 ,  4J031AE07 ,  4J031AF04 ,  4J031AF18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

• 高含水ヒドロゲルおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-274947   Applicant：テルモ株式会社
• 高含水高弾性透明ヒドロゲル
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-220949   Applicant：テルモ株式会社, 奈倉正宣
• 生体関連物質固定化水溶性高分子ゲル及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-268508   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 滑らかなヒドロゲル被覆
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-110465   Applicant：シー・アール・バード・インコーポレーテッド
• 特開平4-202455
  
• 特開昭62-127307
  
• 新規な高吸水形状記憶材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-126042   Applicant：テルモ株式会社, 奈倉正宣
• 吸水性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-312714   Applicant：荒川化学工業株式会社
• 親水性重合体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-304712   Applicant：株式会社日本触媒
• 毛髪化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-326731   Applicant：花王株式会社
• 特開昭63-228053
  
• 特開平2-022555
  
• 特開昭51-016395
  
• 吸水性樹脂粒子およびその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-060705   Applicant：鐘紡株式会社, 小松屋商事株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Substrate Effects of Gel Surfaces on Cell Adhesion and Disrupution