超臨界乾燥装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：高橋明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999151360
Publication number (International publication number)：2000340540
Application date： May. 31, 1999
Publication date： Dec. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】反応処理室への半導体基板の出し入れが容易に出来る超臨界乾燥装置を提供する。【解決手段】中空の反応処理室および反応処理室に通ずる出し入れ口を有する反応槽と、出し入れ口を開け閉めする蓋体を備え、反応処理室内で半導体基板の薬液処理、洗浄処理、乾燥処理を含む各種処理を行なう超臨界乾燥装置にあって、半導体基板を保持し、かつ蓋体に支持される基板保持部材と、この基板保持部材が反応処理室に収まるように反応槽に蓋体を近接したり、反応室より基板保持部材を抜き出すように蓋体を反応槽から離したりする蓋体の接離移動動作が回転を伴なわずに直線的に行なわれるように案内する案内手段と、蓋体に接離移動動作を加える駆動手段とを有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

中空の反応処理室および反応処理室に通ずる出し入れ口を有する反応槽と、出し入れ口を開け閉めする蓋体を備え、反応処理室内で半導体基板の薬液処理、洗浄処理、乾燥処理を含む各種処理を行なう超臨界乾燥装置において、半導体基板を保持し、かつ蓋体に支持される基板保持部材と、この基板保持部材が反応処理室に収まるように反応槽に蓋体を近接したり、反応室より基板保持部材を抜き出すように蓋体を反応槽から離したりする蓋体の接離移動動作が回転を伴なわずに直線的に行なわれるように案内する案内手段と、蓋体に接離移動動作を加える駆動手段とを有することを特徴とする超臨界乾燥装置。

IPC (5)：

H01L 21/304 651 , B08B 3/02 , F26B 7/00 , F26B 3/04 , F26B 3/18

FI (5)：

H01L 21/304 651 Z , B08B 3/02 A , F26B 7/00 , F26B 3/04 , F26B 3/18

F-Term (38)：

3B201AA03 , 3B201AB42 , 3B201AB47 , 3B201BB02 , 3B201BB24 , 3B201BB32 , 3B201BB62 , 3B201BB90 , 3B201BB91 , 3B201BB92 , 3B201BB99 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3B201CD22 , 3L113AA01 , 3L113AB02 , 3L113AB05 , 3L113AC01 , 3L113AC20 , 3L113AC45 , 3L113AC46 , 3L113AC48 , 3L113AC49 , 3L113AC54 , 3L113AC57 , 3L113AC63 , 3L113AC67 , 3L113AC75 , 3L113AC76 , 3L113AC77 , 3L113AC79 , 3L113AC90 , 3L113BA34 , 3L113DA02 , 3L113DA07 , 3L113DA18 , 3L113DA24 , 3L113DA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

精密洗浄方法および精密洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-202001 Applicant：日機装株式会社
耐圧容器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-173331 Applicant：シューズリフレッシャー開発協同組合, 土屋好文
基板から汚染物を取り除く方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-010641 Applicant：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

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