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J-GLOBAL ID:200903017094288628

細孔を有する構造体の製造方法及び細孔を有する構造体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡辺 徳廣
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000201366
Publication number (International publication number):2002020892
Application date: Jul. 03, 2000
Publication date: Jan. 23, 2002
Summary:
【要約】【課題】 陽極酸化により作製される細孔の配列、間隔、位置、方向、形状等を制御することが可能な細孔を有する構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に絶縁層と被陽極酸化層が積層された積層膜を、該積層膜の端から陽極酸化させることにより該基板表面に対し、実質的に平行な軸を有する細孔配列を該基板上に作製する方法において、該被陽極酸化層がアルミニウムを主成分とする膜であり、且つ該被陽極酸化層が該絶縁層に挟まれており、且つ作製される細孔間隔の凹凸配列パターンが該絶縁層の少なくとも1層に細孔方向に施されている細孔を有する構造体の製造方法。
Claim (excerpt):
基板上に絶縁層と被陽極酸化層が積層された積層膜を、該積層膜の端から陽極酸化させることにより該基板表面に対し、実質的に平行な軸を有する細孔配列を該基板上に作製する方法において、該被陽極酸化層がアルミニウムを主成分とする膜であり、且つ該被陽極酸化層が該絶縁層に挟まれており、且つ作製される細孔間隔の凹凸配列パターンが該絶縁層の少なくとも1層に細孔方向に施されていることを特徴とする細孔を有する構造体の製造方法。
IPC (4):
C25D 11/04 302 ,  C25D 11/20 302 ,  H01L 21/316 ,  H01L 29/06
FI (4):
C25D 11/04 302 ,  C25D 11/20 302 ,  H01L 21/316 T ,  H01L 29/06
F-Term (3):
5F058BC03 ,  5F058BF70 ,  5F058BJ10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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