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J-GLOBAL ID:200903017143045221
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 高柴 忠夫
, 増井 裕士
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006185636
Publication number (International publication number):2008014768
Application date: Jul. 05, 2006
Publication date: Jan. 24, 2008
Summary:
【課題】装置自身の異常を検出することができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。【解決手段】記憶部207には、予め基準被写体を撮像して得られた基準情報が保存されている。欠陥抽出部205は、基準情報の取得後に基準被写体を撮像して得られた比較対象情報と、記憶部207に保存されている基準情報とを比較し、両者が異なる部分を欠陥として抽出する。欠陥判定部206は、欠陥の抽出結果に基づいて、装置自身の異常の有無を判定する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
検査対象物の欠陥検査を行う欠陥検査装置において、
基準被写体を撮像する撮像手段と、
前記基準被写体を撮像して得られた基準情報を記憶する記憶手段と、
前記基準情報の取得後に前記基準被写体を撮像して得られた比較対象情報と前記基準情報とを比較した結果に基づいて装置自身の異常の有無を判定する判定手段と、
を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (22):
2G051AA51
, 2G051AA90
, 2G051AC21
, 2G051BB07
, 2G051BB17
, 2G051CA04
, 2G051DA05
, 2G051EA08
, 2G051EA14
, 2G051EA16
, 2G051EA23
, 2G051ED11
, 4M106AA01
, 4M106AA07
, 4M106AB20
, 4M106BA04
, 4M106CA38
, 4M106DB04
, 4M106DB19
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ38
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
保守診断方法及びそのシステム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-072808
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
メンテナンス一括管理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-289965
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
デバイス製造装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-330949
Applicant:キヤノン株式会社
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