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J-GLOBAL ID：200903017475522031

蒸着装置

Inventor：
青 木 進

About 青 木 進


Applicant, Patent owner：
日本電子株式会社

About 日本電子株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999278622
Publication number (International publication number)：2001107222
Application date： Sep. 30, 1999
Publication date： Apr. 17, 2001
Summary：
【要約】【課題】 試料表面のみに蒸着を行う蒸着装置を提供すること。【解決手段】 オペレータは、探針8が試料11から遠ざかるようにZ方向駆動機構5を移動させ、蒸着源取付部19に数A程度の電流が流れるように加熱電源27を制御する。この制御により蒸着源取付部19は通電加熱され、その中に入っている蒸着源20は加熱蒸発し、この蒸発によって生成された蒸着物質のうち、蒸着口26を通過してさらに蒸着口24を通過した蒸着物質は、蒸着装置13から試料11の方へ放出される。そして、蒸着装置13から放出された蒸着物質は、基台3の蒸着物質通過孔12を通過して、蒸着物質の進路上に配置された試料ステージ上の試料11に到達し、試料の表面に金の薄膜が形成される。
Claim (excerpt)：
蒸着容器と、該容器内に配置された蒸着源取付部と、該蒸着源取付部に取り付けられる蒸着源を蒸発させる手段と、前記蒸着源が蒸発して生成される蒸着物質を通過させる蒸着口を有し、前記蒸着源取付部を覆うように前記容器内に配置された蒸着源カバーと、前記容器内であって、前記蒸着口を通過した蒸着物質の進路上に配置された試料ステージを備えたことを特徴とする蒸着装置。
IPC (2)：
C23C 14/24 ,  G01N 13/10
FI (2)：
C23C 14/24 A ,  G01N 13/10 D
F-Term (6)：
4K029AA06 ,  4K029BA05 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029DB11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 成膜装置及び成膜方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-013193   Applicant：三菱電機株式会社
  • 特開昭61-042844

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