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J-GLOBAL ID:200903017698697798

光触媒膜を有する金属基材とその製造方法及び金属基材表面の親水化方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 奥山 尚一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000364045
Publication number (International publication number):2002080980
Application date: Nov. 30, 2000
Publication date: Mar. 22, 2002
Summary:
【要約】【課題】 基材が金属である場合に、剥離等の機械的強度を損なうことなく、熱処理時に基材からの成分の拡散による光触媒的な機能が劣化することなく、光触媒的に表面を親水性にする方法を提供する。【解決手段】 金属基材の圧延・切り出し工程(1)と、得られた金属基材の酸洗処理工程(2)と、その後の金属基材上への光触媒物質の成膜工程(3)と、成膜後のアニーリング工程(4)とを含む、光触媒膜を有する金属基材の製造方法を提供する。また、金属基材の圧延・切り出し工程と、得られた金属基材の酸洗処理工程と、その後の金属基材表面へのTiO2の成膜工程、成膜後のアニーリング工程、光照射工程を含む、金属基材表面の親水化方法を提供する。
Claim (excerpt):
金属基材の圧延・切り出し工程と、得られた金属基材の酸洗処理工程と、その後の金属基材上への光触媒物質の成膜工程と、成膜後のアニーリング工程とを含む、光触媒膜を有する金属基材の製造方法。
IPC (8):
C23C 28/04 ,  B01J 21/08 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  C23C 8/12 ,  C23C 14/08 ,  C23C 26/00 ,  C23F 1/26
FI (9):
C23C 28/04 ,  B01J 21/08 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 P ,  C23C 8/12 ,  C23C 14/08 N ,  C23C 14/08 E ,  C23C 26/00 C ,  C23F 1/26
F-Term (71):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA05A ,  4G069BA17 ,  4G069BA18 ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC43A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069EA07 ,  4G069EB15Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC28 ,  4G069ED02 ,  4G069ED03 ,  4G069FA04 ,  4G069FB01 ,  4G069FB02 ,  4G069FB09 ,  4G069FB15 ,  4G069FB17 ,  4G069FB30 ,  4G069FB39 ,  4G069FB78 ,  4K029AA02 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DC39 ,  4K029FA04 ,  4K029GA01 ,  4K044AA03 ,  4K044AA06 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BA14 ,  4K044BB01 ,  4K044BB03 ,  4K044BB04 ,  4K044CA02 ,  4K044CA04 ,  4K044CA12 ,  4K044CA13 ,  4K044CA14 ,  4K044CA15 ,  4K044CA53 ,  4K057WA01 ,  4K057WB08 ,  4K057WB11 ,  4K057WE02 ,  4K057WE07 ,  4K057WE08 ,  4K057WJ10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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