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J-GLOBAL ID:200903023911005862
光触媒薄膜及びその形成方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
下田 容一郎 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994310896
Publication number (International publication number):1996066635
Application date: Dec. 14, 1994
Publication date: Mar. 12, 1996
Summary:
【要約】【目的】 高い脱臭能力を有し、しかも長期的且つ繰返し使用に耐え得る光触媒薄膜を提供する。【構成】 タイル等の基板表面にルチル型TiO2薄膜を形成し、次いでこの薄膜上にCu、Ag、Fe、Co、Pt、Ni、Pd、Cu2Oのうち少なくとも一種の金属塩水溶液またはエタノール溶液を塗布し、この後、紫外線を含む光を照射して金属イオンを還元してルチル型TiO2薄膜に金属を固定化する。
Claim (excerpt):
基材表面にルチル型TiO2薄膜が形成され、このTiO2薄膜の上にCu、Ag、Fe、Co、Pt、Ni、Pd、Cu2Oのうち少なくとも一種が固定化されていることを特徴とする光触媒薄膜。
IPC (6):
B01J 35/02
, A61L 9/01
, B32B 9/00
, B32B 15/04
, C01G 23/04
, C04B 41/89
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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特公昭42-012055
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特開平2-000503
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特開平4-219317
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特開平1-218635
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脱臭機能を備えた板状部材の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-089588
Applicant:東陶機器株式会社
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特開平3-193191
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特開昭61-146345
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特開平1-224337
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水処理用触媒及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-092265
Applicant:サンデン株式会社
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酸化チタン薄膜の製法並びに該薄膜を用いた光化学反応器の製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-219992
Applicant:株式会社日立製作所, 財団法人地球環境産業技術研究機構
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