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J-GLOBAL ID：200903017756838631

排水処理システム

Inventor： 小田原 健治 ,  山川 公一郎 ,  萩原 誠 ,  辰己 安良 ,  藤田 正憲 ,  岩堀 恵祐
Applicant, Patent owner： 株式会社竹中工務店
Agent (1)： 中島 淳 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993093298
Publication number (International publication number)：1994296987
Application date： Apr. 20, 1993
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 自動的に安定した浄化作用を得ることができる排水処理システムを得る。【構成】 排水処理制御システム10は、調整槽に供給される原水が流入水として曝気槽へ流入され、好気性の微生物を含む活性汚泥と混合された混合水が沈殿槽に供給され、沈殿槽の上澄み水を処理水として流出する活性汚泥処理プラント12を構成する。各槽及び水を計測するセンサー群32、34、36による計測情報に基づき計測ファジイ制御部70で操作変量をファジイ推論し、管理者等の機能診断に基づき操作変量を機能診断ファジイ制御部72でファジイ推論し、各推論結果から総合ファジイ推論部74で最終的な操作変量をファジイ推論して活性汚泥処理プラント12を制御する。

Claim (excerpt)：

流入された原水を曝気する曝気槽及び前記曝気槽から流出された混合水を貯留水として貯留する沈殿槽を備え、前記原水を活性汚泥法を用いて処理し前記沈殿槽の上澄み液を処理水として排出する排水処理システムにおいて、前記曝気槽に酸素を供給する供給手段と、前記沈殿槽に沈殿した沈殿物を前記曝気槽へ返送する返送手段と、前記沈殿槽に沈殿した沈殿物を排出する排出手段と、前記原水、前記混合液及び前記処理水の汚れ状態を計測する計測手段と、前記計測手段によって計測した計測情報に基づいて所定状態に浄化された処理水が得られるように前記供給手段、前記返送手段及び前記排出手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする排水処理システム。

IPC (2)：

C02F 3/12 ZAB ,  C02F 3/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 活性汚泥プロセスの最適制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-032526   Applicant：株式会社明電舎