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J-GLOBAL ID:200903017786721097

可変スリット装置および線幅の可変方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998086490
Publication number (International publication number):1998340854
Application date: Mar. 31, 1998
Publication date: Dec. 22, 1998
Summary:
【要約】【課題】 リソグラフィーにおける矩形照明フィールドの均一性を向上させる。【解決手段】 矩形照明フィールドないしスリットを調節してスキャニングリソグラフィーにおける照明フィールドの均一性を高める装置において、複数のブレードが結合されて照明フィールドの長さ方向に可動なエッジが形成され、該ブレードはピボットピンにより固定又は可撓性のリンクに結合される。該リンクはピボットピンによりプッシュロッドに接続され、該プッシュロッドを独立して調節することによりブレードが制御可能に矩形照明フィールド内に出し入れされる。
Claim (excerpt):
複数のブレードと、複数のプッシュロッドを具備した、リソグラフィー用照明フィールド内の照明エネルギを調節する装置において、前記複数のブレードはそれぞれ端部において枢動自在に結合されており、前記複数のプッシュロッドはそれぞれ前記複数のブレードの2個の結合された端部に接続されており、前記複数のプッシュロッドを選択的に移動することにより前記複数のブレードにより照明フィールドの照明エネルギが変化され、その結果照明フィールドには実質的に均一な照明エネルギが得られ、感光性レジストで覆われた基板の露光が均一化されるよう構成された、リソグラフィー用照明フィールド内の照明エネルギを調節する装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G02B 26/02 ,  G03F 7/20 521
FI (5):
H01L 21/30 515 D ,  G02B 26/02 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 527
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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