Pat
J-GLOBAL ID：200903018039321663

プラズマ処理方法及び装置

Inventor：
奥村 智洋

About 奥村 智洋

, 
佐々木 雄一朗

About 佐々木 雄一朗

, 
岡下 勝巳

About 岡下 勝巳

, 
伊藤 裕之

About 伊藤 裕之

, 
水野 文二

About 水野 文二

, 
金 成国

About 金 成国

, 
中山 一郎

About 中山 一郎


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (3)： 小栗 昌平 ,  市川 利光 ,  橋本 公秀
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2006307126
Publication number (International publication number)：WO2006107044
Application date： Apr. 04, 2006
Publication date： Oct. 12, 2006
Summary：
本発明の課題は、試料表面に入射するイオン電流を正確にモニタリングできるプラズマ処理方法及び装置を提供することである。真空容器(1)内に、ガス供給装置(2)から所定のガスを導入しつつ、ターボ分子ポンプ(3)により排気口(11)を介して排気を行い、調圧弁(4)により真空容器(1)内を所定の圧力に保つ。プラズマ源用高周波電源(5)により高周波電力を誘電体窓(7)の近傍に設けられたコイル(8)に供給することにより、真空容器(1)内に誘導結合型プラズマを発生させる。試料電極(6)に高周波電力を供給するための試料電極用高周波電源(10)が設けられ、これと試料電極(6)の間に、試料電極用整合回路(13)及び高周波センサ(14)が設けられている。高周波センサ(14)と演算装置(15)を用いて、試料表面に入射するイオン電流を正確にモニタリングすることができた。
Claim (excerpt)：
真空容器内の試料電極に試料を載置し、ガス供給装置より真空容器内にガスを供給しつつ真空容器内を排気し、真空容器内を所定の圧力に制御しながら、試料電極用整合回路を介して試料電極に高周波電力を供給することによって真空容器内にプラズマを発生させつつ、プラズマ中のイオンを試料の表面に向かって加速し衝突させて試料を処理するプラズマ処理方法であって、 プラズマが発生しない条件で試料電極に高周波電圧を供給して、試料電極用整合回路と試料電極との間に設けた高周波センサにより試料電極に供給される高周波電圧V0及び電流I0を測定するステップと、 プラズマを発生させて試料をプラズマ処理している際に高周波センサにより試料電極に供給される高周波電圧V1及び電流I1を測定するステップと、 試料電極に流れる電荷移動にもとづく実質的な高周波電流をIr=I1-I0×V1/V0として求めるステップと、 前記Irにもとづき処理条件を制御するステップとを有するプラズマ処理方法。
IPC (3)：
H01L 21/265 ,  H05H 1/46 ,  C23C 14/48
FI (4)：
H01L21/265 T ,  H05H1/46 L ,  H01L21/265 F ,  C23C14/48 B
F-Term (25)：
4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BD01 ,  4K029CA10 ,  4K029DA03 ,  4K029EA04 ,  4K029EA06 ,  4K029EA09 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004CA06 ,  5F004CB05 ,  5F045AA08 ,  5F045BB04 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH11 ,  5F045EH20 ,  5F045EJ09 ,  5F045EM05 ,  5F045GB07 ,  5F045GB08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM