マイクロ流体デバイスおよびその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：植木久一 , 菅河忠志 , 二口治 , 伊藤浩彰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005167213
Publication number (International publication number)：2006341154
Application date： Jun. 07, 2005
Publication date： Dec. 21, 2006
Summary：

【課題】反応効率を一層向上でき、かつ、種々の反応に適用可能な耐性(例えば、耐熱性や耐薬品性)を備えたマイクロ流体デバイスを提供することにある【解決手段】流路を有するマイクロ流体デバイスであって、上記流路の少なくとも一部に、無機化合物を主骨格とする多孔質部を有する。本発明のマイクロ流体デバイスの製造方法は、溝部が形成された第1部材上に、有機金属化合物、有機溶媒、水を含む多孔質部形成用溶液を塗布した後加熱して多孔質部を形成する工程、不要な多孔質部を除去する工程、第1部材上に、第2部材を載置して接合し流路を形成する工程、を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

流路を有するマイクロ流体デバイスであって、上記流路の少なくとも一部に、無機化合物を主骨格とする多孔質部を有することを特徴とするマイクロ流体デバイス。

IPC (4)：

B01J 19/00 , B81B 1/00 , B81C 3/00 , G01N 37/00

FI (4)：

B01J19/00 321 , B81B1/00 , B81C3/00 , G01N37/00 101

F-Term (14)：

4G075AA13 , 4G075AA15 , 4G075AA39 , 4G075BA10 , 4G075BB05 , 4G075BB07 , 4G075BD13 , 4G075CA54 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EA02 , 4G075FA01 , 4G075FA14 , 4G075FB06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

C型肝炎NS3プロテアーゼインヒビター
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-543648 Applicant：メディヴァーユーケイリミテッド
広角レンズ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-315537 Applicant：日本電産コパル株式会社
記憶装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-187222 Applicant：松下電器産業株式会社

Show all

Return to Previous Page