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J-GLOBAL ID：200903018061572637

画像記録材料

Inventor：
藤牧 一広

About 藤牧 一広

, 
曽呂利 忠弘

About 曽呂利 忠弘


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000249569
Publication number (International publication number)：2002062648
Application date： Aug. 21, 2000
Publication date： Feb. 28, 2002
Summary：
【要約】【課題】 赤外線レーザを用いてデジタルデータから記録可能であり、記録時のレーザー走査におけるアブレーションが抑制され、形成された画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を形成しうるネガ型画像記録材料を提供する。【解決手段】 (A)側鎖に下記一般式(1)〜一般式(3)で表される基を少なくとも1つ有する水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、及び、(C)(B)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成する化合物を含有し、ヒートモード露光により画像記録可能であることを特徴とするヒートモード対応ネガ型画像記録材料。式中、Rl〜Rllは1価の有機基を、X、Y、Zは、酸素原子、硫黄原子、-N-R12またはフェニレン基を表し、R12は、水素原子、または1価の有機基を表す。【化1】
Claim (excerpt)：
(A)側鎖に下記一般式(1)〜一般式(3)で表される基を少なくとも1つ有する水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、及び、(C)(B)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物を含有し、ヒートモード露光により画像記録可能であることを特徴とするヒートモード対応ネガ型画像記録材料。【化1】式中、Rl〜Rllは、それぞれ独立に、1価の有機基を表す。X、Yは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、または-N-R12を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、-N-R12またはフェニレン基を表す。R12は、水素原子、または1価の有機基を表す。
IPC (6)：
G03F 7/038 501 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/00 503
FI (6)：
G03F 7/038 501 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/00 503
F-Term (37)：
2H025AA12 ,  2H025AA13 ,  2H025AB03 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC31 ,  2H025BC53 ,  2H025CA48 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H096AA07 ,  2H096AA08 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096BA16 ,  2H096BA20 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H114AA04 ,  2H114AA23 ,  2H114AA24 ,  2H114BA01 ,  2H114BA10 ,  2H114DA03 ,  2H114DA21 ,  2H114DA34 ,  2H114DA39 ,  2H114DA41 ,  2H114DA48 ,  2H114DA52 ,  2H114DA53 ,  2H114DA58 ,  2H114EA01 ,  2H114EA03 ,  2H114EA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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