Pat
J-GLOBAL ID：200903057147318682
カラーフィルターレジスト溶液
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995022772
Publication number (International publication number)：1996220760
Application date： Feb. 10, 1995
Publication date： Aug. 30, 1996
Summary：
【要約】【目的】 色材料、光重合開始系、エチレン性化合物、有機高分子分散剤及び溶剤を含有するカラーフィルターレジスト溶液の、現像性、透明性、耐溶剤性、基板との接着性を改善する。【構成】 フェニル基を有するモノマーとカルボン酸基を有するモノマーとの共重合体よりなる有機高分子分散剤を色材料の5〜50重量%含む。界面活性剤の色材料への吸着量が色材料の2〜15重量%。色材料を平均粒径0.2μm以下に分散させる。【効果】 本発明に係る有機高分子分散剤は、色材料を高濃度にカラーフィルターレジスト溶液中に分散させる。また、塗布、パターン露光後、現像した際に、露光部分のカラーフィルターレジストの基板との密着性を低下させることなく、高濃度に色材料を含有するカラーフィルターレジストの未露光部分を現像中に速やかに溶出させる。露光部分の基板との十分な接着性を保持し、良好な現像性を実現し、高品質なレジストパターンを形成できる。
Claim (excerpt)：
色材料、光重合開始系、エチレン性化合物、有機高分子分散剤及び溶剤を含有するカラーフィルターレジスト溶液において、該有機高分子分散剤がフェニル基を有するモノマーとカルボン酸基を有するモノマーとの共重合体であり、その含有量が色材料の5〜50重量%であり、該界面活性剤の色材料への吸着量が色材料の2〜15重量%であり、かつ、色材料は平均粒径0.2μm以下の分散粒子として分散していることを特徴とするカラーフィルターレジスト溶液。
IPC (7)：
G03F 7/033
, G02B 5/20 101
, G03F 7/004 504
, G03F 7/004 505
, G03F 7/027 502
, G03F 7/028
, H01J 29/32
G03F 7/033
, G02B 5/20 101
, G03F 7/004 504
, G03F 7/004 505
, G03F 7/027 502
, G03F 7/028
, H01J 29/32
