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J-GLOBAL ID：200903018204656616

X線蛍光体製作方法及びX線蛍光体形成用基板

Inventor： 小倉 洋
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999236731
Publication number (International publication number)：2001059899
Application date： Aug. 24, 1999
Publication date： Mar. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】 X線検査装置等に用いる、X線を可視光に変換する高分解能なX線蛍光体を得るためのX線蛍光体製作方法及びX線蛍光体形成用基板を提供することを目的とする。【解決手段】 基板103に対し、蒸着源106、107と、ターゲット109が設置されているスパッタ源108より、ガスを導入しながら既定の圧力下で成膜を行うことで、光の拡散を防ぐ構造を持ち、画像処理しやすい発光スペクトルを有するX線蛍光体を作製することが可能となる。

Claim (excerpt)：

よう化セシウム(CsI )を主成分としCsI に対し付加物質を加えるX線蛍光体の製作方法において、CsI を蒸着で、付加物質をスパッタで形成することを特徴とするX線蛍光体製作方法。

IPC (4)：

G21K 4/00 ,  C09K 11/02 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/61 CPF

FI (4)：

G21K 4/00 M ,  C09K 11/02 A ,  C09K 11/08 G ,  C09K 11/61 CPF

F-Term (24)：

2G083AA02 ,  2G083AA09 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083CC04 ,  2G083DD01 ,  2G083DD02 ,  2G083DD11 ,  2G083DD12 ,  2G083DD14 ,  2G083DD15 ,  2G083EE02 ,  4H001CA08 ,  4H001CC01 ,  4H001CC05 ,  4H001CC11 ,  4H001XA53 ,  4H001XA55 ,  4H001YA03 ,  4H001YA11 ,  4H001YA19 ,  4H001YA37 ,  4H001YA49 ,  4H001YA81

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 蛍りん光体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-195318   Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー