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J-GLOBAL ID:200903018307034850

光断層画像化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005289116
Publication number (International publication number):2007101262
Application date: Sep. 30, 2005
Publication date: Apr. 19, 2007
Summary:
【課題】光コヒーレンストモグラフィー計測において、測定光もしくは参照光の光路長を調整したときの光量変化による画質の劣化を防止する。【解決手段】参照光L2の光路長を調整するときに、光ファイバFB3を射出した参照光L2は、第1光学レンズ21aにより平行光になり、第2光学レンズ21bにより反射ミラー22上に集光される。その後、反射ミラー22により反射された参照光L2は、第2光学レンズ21bにより平行光になり、第1光学レンズ21aにより光ファイバFB3のコアに集光される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
測定対象の断層画像を取得する光断層画像化装置において、 光を射出する光源ユニットと、 該光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、 該光分割手段により分割された前記測定光もしくは前記参照光の光路長を調整する光路長調整手段と、 前記光分割手段から前記光路長調整手段まで前記測定光もしくは前記参照光を導波する光ファイバと、 前記測定光が前記測定対象に照射されたときの該測定対象からの前記反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、 該合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光検出手段と、 該干渉光検出手段により検出された前記干渉光から前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段と を備え、 前記光路長調整手段が、 前記光ファイバから射出された前記測定光もしくは前記参照光を反射する反射ミラーと、 該反射ミラーと前記光ファイバとの間に配置された、前記光ファイバのコアから射出された前記測定光もしくは前記参照光を平行光にするとともに、前記反射ミラーにより反射された前記測定光もしくは前記参照光を前記光ファイバのコアに集光する第1光学レンズと、 該第1光学レンズと前記反射ミラーとの間に配置された、該第1光学レンズにより平行光にされた前記測定光もしくは前記参照光を前記反射ミラー上に集光するとともに、該反射ミラーにより反射された前記測定光もしくは前記参照光を平行光にする第2光学レンズと を有するものであることを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (2):
G01N 21/17 ,  G01B 11/24
FI (3):
G01N21/17 620 ,  G01N21/17 630 ,  G01B11/24 D
F-Term (46):
2F065AA04 ,  2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065CC16 ,  2F065FF00 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF41 ,  2F065FF51 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065GG08 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL15 ,  2F065LL42 ,  2F065LL53 ,  2F065LL62 ,  2F065LL67 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG08 ,  2G059GG09 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ14 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ18 ,  2G059JJ21 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 光断層イメージング装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-319850   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • 光イメージング装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-339787   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Cited by examiner (3)

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