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J-GLOBAL ID:200903018353205120
炭化ホウ素セラミックスおよびその製造方法
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人みのり特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007239028
Publication number (International publication number):2009067642
Application date: Sep. 14, 2007
Publication date: Apr. 02, 2009
Summary:
【課題】より生産性が高く、かつ、機械的特性に優れた炭化ホウ素セラミックスおよびその製造方法を提供する。【解決手段】炭化ホウ素セラミックスであって、非晶質Bと、非晶質Cと、焼結助剤であるAl2O3粉体からなる出発原料より構成され、さらに、前記出発原料に対してカーボンナノファイバーを略均質に分散させた状態で含み、焼結体の炭化ホウ素セラミックスとしての略相対密度が99%以上であるものとする。カーボンナノファイバーは、3〜15vol.%、炭化ホウ素に対して内割りで含むことがより好ましい。上記炭化ホウ素セラミックスは、上記出発原料とカーボンナノファイバーとの混合粉体を、放電プラズマ焼結法を用いて合成同時焼結することにより調製されることが好ましい。【選択図】図1
Claim (excerpt):
炭化ホウ素セラミックスであって、
非晶質ホウ素(boron)Bと、非晶質炭素(carbon)Cと、焼結助剤である酸化アルミニウムAl2O3粉体からなる出発原料より構成され、
さらに、前記出発原料に対してカーボンナノファイバーを略均質に分散させた状態で含み、
焼結体の炭化ホウ素セラミックスとしての略相対密度が99%以上であることを特徴とする炭化ホウ素セラミックス。
IPC (3):
C04B 35/563
, C04B 35/64
, C04B 35/80
FI (3):
C04B35/56 B
, C04B35/64 E
, C04B35/80 B
F-Term (12):
4G001BA60
, 4G001BA68
, 4G001BA86
, 4G001BB23
, 4G001BB86
, 4G001BC52
, 4G001BC54
, 4G001BC55
, 4G001BC63
, 4G001BD12
, 4G001BD14
, 4G001BD16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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特開平4-160012
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特開昭59-184767
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SiCセラミックス及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-152333
Applicant:学校法人同志社
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特許第7419925号
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Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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