光源自動化システム

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993282155
Publication number (International publication number)：1996106549
Application date： Oct. 18, 1993
Publication date： Apr. 23, 1996
Summary：

【要約】【目的】3次元コンピューター・グラフィックスにおける光源の光源位置、照射位置、光源ベクトル、照射範囲、光源強度、減衰係数の自動化。【構成】光源位置は視点自動追随、照射位置は注視点自動追随、光源ベクトルは光軸ベクトル自動追随、照射範囲は被写体範囲自動追随させる手段により、自動化を達成する。光源強度と減衰係数は指定した2つの物体を基準に自動決定させる。視点自動化システムと注視点自動化システムと組み合わせることにより、視点、注視点、光源のすべてを自動化して画像生成でき、アーティストやデザイナはこれら相互の複雑な調整に捕らわれることなく、ひたすら造形的手腕を発揮できる。

Claim (excerpt)：

3次元CGにおける光源位置の自動化にあたり、次の(1a)の手段からなることを特徴とする光源自動化システム。(1a)画像生成開始直前の視点の座標を、光源位置とする手段。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

コンピュータグラフィックスおよびその画像観察条件決定支援方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-045777 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭60-077743
特開昭63-016388

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Cited by examiner (9)

図形処理における点光源の指定方式
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-289324 Applicant：沖電気工業株式会社
特開昭60-077743
コンピュータグラフィックスおよびその画像観察条件決定支援方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-045777 Applicant：株式会社日立製作所

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