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J-GLOBAL ID：200903018433488166

ガス処理ユニットおよびガス処理システム

Inventor：
吉野 潔

About 吉野 潔


Applicant, Patent owner：
岩崎電気株式会社

About 岩崎電気株式会社


Agent (2)： 櫛渕 昌之 ,  櫛渕 一江
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006212946
Publication number (International publication number)：2008036513
Application date： Aug. 04, 2006
Publication date： Feb. 21, 2008
Summary：
【課題】処理対象ガスに含まれる除去対象成分の濃度が急激に変動した場合でも、除去対象成分の濃度が十分に低濃度になるまで除去可能とする。【解決手段】排ガスGAに対して除去溶液を散水し、当該排ガスGAから除去対象成分を除去する散水塔16を装置本体11に設け、前記装置本体11に設けた排ガス導入管12から導入した排ガスGAから前記散水塔16により除去対象成分を除去し、前記装置本体11に設けた排ガス排出管13から排出する湿式排ガス処理装置10を複数有し、前記湿式排ガス処理装置10同士の排ガス排出管13と排ガス導入管12とを連結管15を介して接続して、複数の前記湿式排ガス処理装置10を直列に連結した。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
処理対象ガスに対して除去溶液を散水し、当該処理対象ガスから除去対象成分を除去する散水手段を装置本体に設け、前記装置本体に設けた導入口から導入した処理対象ガスから前記散水手段によって除去対象成分を除去し、前記装置本体に設けた排出口から排出する湿式ガス処理装置を複数有し、 前記湿式ガス処理装置同士の排出口と導入口とを連結管を介して接続して、複数の前記湿式ガス処理装置を直列に連結したことを特徴とするガス処理ユニット。
IPC (7)：
B01D 53/44 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/75 ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02
FI (6)：
B01D53/34 117C ,  B01D53/34 116E ,  B01D53/34 134F ,  B01D53/34 116C ,  B01D53/36 J ,  B01J35/02 J
F-Term (43)：
4D002AA03 ,  4D002AA13 ,  4D002AA18 ,  4D002AA21 ,  4D002AA32 ,  4D002AA33 ,  4D002AA40 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002BA16 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002DA58 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002EA11 ,  4D002GA02 ,  4D002GB02 ,  4D002GB06 ,  4D002GB20 ,  4D048AA21 ,  4D048AA22 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA10X ,  4D048BA13X ,  4D048BB03 ,  4D048CD02 ,  4D048CD08 ,  4D048EA01 ,  4G169AA03 ,  4G169BA04B ,  4G169BA48A ,  4G169CA07 ,  4G169CA10 ,  4G169CA17 ,  4G169EA11 ,  4G169EE07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)

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