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J-GLOBAL ID：200903018445172024

基板処理装置の基板保持具

Inventor： 藤川 和憲 ,  安井 研二 ,  西澤 久雄
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 北谷 寿一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995131739
Publication number (International publication number)：1996049073
Application date： May. 30, 1995
Publication date： Feb. 20, 1996
Summary：

【要約】【目的】 基板保持溝内に処理液が残留する不都合を改善して、基板の浸漬処理工程におけるクロスコンタミネーションの問題を解消する。【構成】 本基板保持具20は、複数の基板Wを起立姿勢で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠21A〜21Bを有し、起立姿勢で保持した複数の基板Wを処理液中から相対的に引き上げる基板処理装置において用いられる。上記基板保持枠21A〜21Bの各基板保持溝22の底部に基板Wの厚さより大きな直径を有する液抜き孔23a・23bを貫通形成する。

Claim (excerpt)：

複数の基板を起立姿勢で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠を有し、起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中から相対的に引き上げる基板処理装置の基板保持具において、上記基板保持枠の各基板保持溝の底部に基板の厚さより大きな直径を有する液抜き孔を貫通形成したことを特徴とする基板処理装置の基板保持具。

IPC (5)：

C23C 14/50 ,  B08B 11/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68 ,  B65D 85/86

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-161724
  
• 特開平3-022547
  
• キャリアカセット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-163035   Applicant：株式会社日立製作所