Pat
J-GLOBAL ID:200903018470147530
疎水性および親水性の成分を有する水性ゲル形成システム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000610306
Publication number (International publication number):2002541308
Application date: Mar. 20, 2000
Publication date: Dec. 03, 2002
Summary:
【要約】不飽和基端末を有する疎水性マクロマーおよび不飽和基挿入化合物と反応する水酸基を含有するポリサッカリドである親水性ポリマーを含む水性ゲル形成システムが、フリーラジカル的重合により変換されて、疎水性および親水性の成分を有する3次元橋かけポリマー・ネットワークを含有する水性ゲルを形成する。特に、疎水性マクロマーが、脂肪族ポリエステルの端末カルボン酸の水酸基をアミノエタノール基に変換することにより得られるジオールの水酸基を、分子の1つの端末に不飽和基を有するアクリロイルクロライドまたはイソシアネートである不飽和基挿入化合物と反応せしめてつくられる。特に、親水性ポリマーがデキストランであって、デキストランのグルコース単位中の1以上の水酸基が、分子の1つの端末に不飽和基を有するアクリロイルクロライドまたはイソシアネートである不飽和基挿入化合物と反応せしめられる。ポリマー・ネットワーク中に、制御された放出のために捕捉され得る物質は、例えば、薬物、水溶性マクロ分子、合成または天然のポリマーである。
Claim (excerpt):
フリーラジカル的重合により1相の橋かけネットワーク構造に変換され得る疎水性および親水性の成分を含む、水性ゲル形成システム。
IPC (9):
C08F299/00 ZBP
, A61K 9/20
, A61K 31/405
, A61K 38/00
, A61K 38/28
, A61K 47/32
, A61K 47/36
, A61P 3/10
, A61P 29/00
FI (9):
C08F299/00 ZBP
, A61K 9/20
, A61K 31/405
, A61K 47/32
, A61K 47/36
, A61P 3/10
, A61P 29/00
, A61K 37/26
, A61K 37/02
F-Term (37):
4C076AA36
, 4C076BB01
, 4C076CC04
, 4C076CC30
, 4C076EE10A
, 4C076EE24A
, 4C076EE38A
, 4C076EE46
, 4C076FF32
, 4C076FF35
, 4C076FF67
, 4C084AA02
, 4C084AA03
, 4C084BA03
, 4C084DB34
, 4C084MA05
, 4C084MA34
, 4C084MA52
, 4C084NA06
, 4C084NA12
, 4C084ZC032
, 4C084ZC352
, 4C086AA01
, 4C086AA02
, 4C086BC15
, 4C086MA03
, 4C086MA05
, 4C086MA35
, 4C086NA06
, 4C086NA11
, 4C086NA12
, 4C086ZB11
, 4J027AB01
, 4J027AB02
, 4J027AB10
, 4J027CB08
, 4J027CD07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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デキストランエステル共重合体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-159223
Applicant:名糖産業株式会社, 株式会社サンコンタクトレンズ
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特表平7-506961
Article cited by the Patent:
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