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J-GLOBAL ID:200903018484931200
光ディスクの保護膜形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
木下 實三 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994175239
Publication number (International publication number):1996036790
Application date: Jul. 27, 1994
Publication date: Feb. 06, 1996
Summary:
【要約】【目的】 保護膜の盛り上がり部を除去できて均一な膜厚にでき、保護膜形成時のタクトタイムを低減できる光ディスクの保護膜形成方法を提供すること。【構成】 光ディスク1表面に樹脂2を吐出し、光ディスク1を高速回転させて光ディスク1表面に形成される保護膜5の膜厚を制御した後、光ディスク1を急制動して光ディスク1の外周部に残った余分な樹脂2(盛り上がり部6)を除去する。急制動によって盛り上がり部6を除去しているため、タクトタイムを低減できて生産性を向上できる。
Claim (excerpt):
光ディスク表面に樹脂を吐出し、光ディスクを高速回転させて光ディスク表面に形成される保護膜の膜厚を制御した後、光ディスクを急制動して光ディスク外周部に残った余分な樹脂を除去することを特徴とする光ディスクの保護膜形成方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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光ディスクの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-160770
Applicant:シャープ株式会社
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特開昭63-200866
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特開昭61-064364
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光ディスクの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-315730
Applicant:ソニー株式会社
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ディスク用被膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-323639
Applicant:オリジン電気株式会社
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