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J-GLOBAL ID：200903018666403136

高濃度有機汚水処理方法とその装置

Inventor：
向井 佳久

About 向井 佳久


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (1)： 石原 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993154738
Publication number (International publication number)：1995008980
Application date： Jun. 25, 1993
Publication date： Jan. 13, 1995
Summary：
【要約】【目的】 粉砕した固形有機物の液状化率が高く、残留固形物や余剰汚泥の発生が少なく、残留固形物や余剰汚泥の後処理を軽減し、粉砕した固形有機物を含む高濃度有機汚水を安定して処理できる高濃度有機汚水処理装置を提供する。【構成】 含水有機廃棄物を粉砕する粉砕手段2と、前記粉砕手段2の下流に配設され槽内に嫌気性微生物保持床5を有し前記粉砕手段2で粉砕された前記含水有機廃棄物の固形物と排水とを前記嫌気性微生物保持床5に接触させ前記固形物を液状化する液状化槽4と、前記液状化槽4の処理水を浄化処理する合併浄化槽7、14、19と、前記合併浄化槽7、14、19の処理水を前記液状化槽4に還流する還流手段25、26、27とを備える。
Claim (excerpt)：
含水有機廃棄物を粉砕する粉砕工程と、前記粉砕工程で粉砕された含水有機廃棄物の固形物と排水とを嫌気性微生物保持床に接触させて前記固形物を液状化する液状化工程と、前記液状化工程の処理水を合併浄化槽内で浄化処理する浄化工程と、前記浄化工程の処理水を前記液状化工程に還流する還流工程とを有することを特徴とする高濃度有機汚水処理方法。
IPC (4)：
C02F 3/00 ZAB ,  C02F 3/30 ,  C02F 3/34 ,  C02F 3/34 101
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 特開昭60-222198
  • 特開昭54-147171
  • 特開平4-244295
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Cited by examiner (4)
  • 特開昭60-222198
  • 特開昭54-147171
  • 特開平4-244295
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