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J-GLOBAL ID:200903018802750392
プローブ保持装置、試料の取得装置、試料加工装置、試料加工方法、および試料評価方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
西山 恵三
, 内尾 裕一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003012284
Publication number (International publication number):2004227842
Application date: Jan. 21, 2003
Publication date: Aug. 12, 2004
Summary:
【課題】試料から必要な微小片を取得することのできる好適なプローブ保持装置装置を提供すること。【解決手段】プローブを取り付け可能なプローブ保持部と、前記プローブの温度を調整するための温度調整手段とを備え、且つ試料を取得するために用いられることを特徴とするプローブ保持装置である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
プローブを取り付け可能なプローブ保持部と、前記プローブの温度を調整するための温度調整手段とを備え、且つ試料を取得するために用いられることを特徴とするプローブ保持装置。
IPC (3):
H01J37/20
, G01N1/28
, H01J37/30
FI (5):
H01J37/20 E
, H01J37/30 Z
, G01N1/28 F
, G01N1/28 G
, G01N1/28 K
F-Term (26):
2G052AA13
, 2G052AA18
, 2G052AA28
, 2G052AA33
, 2G052AD34
, 2G052AD37
, 2G052DA05
, 2G052EB08
, 2G052EB13
, 2G052EC14
, 2G052EC16
, 2G052EC22
, 2G052FD06
, 2G052GA34
, 2G052GA35
, 2G052HA17
, 2G052HC03
, 2G052HC17
, 2G052HC24
, 2G052JA09
, 5C001AA01
, 5C001BB01
, 5C001BB02
, 5C001CC07
, 5C034AA02
, 5C034AB04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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荷電粒子線装置および試料作製装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-340387
Applicant:株式会社日立製作所
-
特開昭59-221955
-
メ ス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-177868
Applicant:ライカミクロズュステムスヌスロッホゲーエムベーハー
-
試料冷却観察装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-319951
Applicant:株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
-
試料冷却装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-112297
Applicant:株式会社日立製作所
-
試料交換装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-178012
Applicant:日本電子株式会社
-
特公昭58-005505
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