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J-GLOBAL ID:200903018802750392

プローブ保持装置、試料の取得装置、試料加工装置、試料加工方法、および試料評価方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003012284
Publication number (International publication number):2004227842
Application date: Jan. 21, 2003
Publication date: Aug. 12, 2004
Summary:
【課題】試料から必要な微小片を取得することのできる好適なプローブ保持装置装置を提供すること。【解決手段】プローブを取り付け可能なプローブ保持部と、前記プローブの温度を調整するための温度調整手段とを備え、且つ試料を取得するために用いられることを特徴とするプローブ保持装置である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
プローブを取り付け可能なプローブ保持部と、前記プローブの温度を調整するための温度調整手段とを備え、且つ試料を取得するために用いられることを特徴とするプローブ保持装置。
IPC (3):
H01J37/20 ,  G01N1/28 ,  H01J37/30
FI (5):
H01J37/20 E ,  H01J37/30 Z ,  G01N1/28 F ,  G01N1/28 G ,  G01N1/28 K
F-Term (26):
2G052AA13 ,  2G052AA18 ,  2G052AA28 ,  2G052AA33 ,  2G052AD34 ,  2G052AD37 ,  2G052DA05 ,  2G052EB08 ,  2G052EB13 ,  2G052EC14 ,  2G052EC16 ,  2G052EC22 ,  2G052FD06 ,  2G052GA34 ,  2G052GA35 ,  2G052HA17 ,  2G052HC03 ,  2G052HC17 ,  2G052HC24 ,  2G052JA09 ,  5C001AA01 ,  5C001BB01 ,  5C001BB02 ,  5C001CC07 ,  5C034AA02 ,  5C034AB04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 荷電粒子線装置および試料作製装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-340387   Applicant:株式会社日立製作所
  • 特開昭59-221955
  • メ ス
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-177868   Applicant:ライカミクロズュステムスヌスロッホゲーエムベーハー
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