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J-GLOBAL ID：200903018904060170

荷電ビーム描画装置及び描画方法

Inventor： 中杉 哲郎 ,  渡邊 由美
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002172637
Publication number (International publication number)：2003068638
Application date： Aug. 26, 1996
Publication date： Mar. 07, 2003
Summary：

【要約】【課題】 マルチビーム方式における描画領域境界でのつなぎずれを無くすことができ、描画精度の向上をはかる。【解決手段】 複数の電子ビーム光学系を持つマルチビーム方式の電子ビーム描画装置において、複数の電子ビーム光学系のうち一つの電子ビーム光学系を選択する手段(S1)と、選択された以外の電子ビーム光学系で順次マーク検出を行う手段(S3)と、選択された電子ビーム光学系における他のマークからの反射粒子の干渉を測定する手段(S4)と、測定結果に基づき干渉のない電子ビーム光学系同士をグループ化する手段(S7)と、グループ化された電子ビーム光学系で同時にマーク位置検出を行う手段(S9)とを備えた。

Claim (excerpt)：

複数の荷電ビーム光学系を持つマルチビーム方式の荷電ビーム描画装置において、複数の荷電ビーム光学系のうち一つの荷電ビーム光学系を選択する手段と、該手段により選択された以外の荷電ビーム光学系で順次マーク検出を行う手段と、前記選択された荷電ビーム光学系における他のマークからの反射粒子の干渉を測定する手段と、該手段の測定結果に基づき干渉のない荷電ビーム光学系同士をグループ化する手段と、該手段によりグループ化された荷電ビーム光学系で同時にマーク位置検出を行う手段とを具備してなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 ,  H01J 37/305

FI (5)：

G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 K ,  H01L 21/30 541 W

F-Term (12)：

2H097AA03 ,  2H097BB03 ,  2H097CA16 ,  2H097KA13 ,  2H097KA18 ,  2H097KA28 ,  2H097LA10 ,  5C034BB06 ,  5C034BB07 ,  5F056AA33 ,  5F056BD03 ,  5F056BD05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 電子ビーム走査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-295907   Applicant：富士通株式会社

Cited by examiner (1)

• 電子ビーム走査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-295907   Applicant：富士通株式会社