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J-GLOBAL ID：200903019006068446

超音波洗浄処理方法及びその装置

Inventor： 鶴崎 広太郎 ,  田中 裕司
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004119037
Publication number (International publication number)：2005296868
Application date： Apr. 14, 2004
Publication date： Oct. 27, 2005
Summary：

【課題】 被処理体へのダメージを抑制すると共に、洗浄効率の向上を図れるようにした超音波洗浄処理方法及びその装置を提供すること。【解決手段】 洗浄槽1内に供給される洗浄液である純水に被処理体であるウエハWを浸漬すると共に、洗浄液に超音波を照射して、ウエハWを洗浄する超音波洗浄処理方法において、洗浄槽1の外部から該洗浄槽1内に、純水と共にN2ガスを供給し、この際、純水の供給流量に対するN2ガスの供給流量を制御することにより、ウエハWへのダメージを抑制することができると共に、洗浄効率の向上を図ることができる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

洗浄槽内に供給される洗浄液に被処理体を浸漬すると共に、洗浄液に超音波を照射して、被処理体を洗浄する超音波洗浄処理方法において、 上記洗浄槽の外部から該洗浄槽内に、上記洗浄液と共にガスを供給することにより気泡を発生させ、この際、洗浄液の供給流量に対するガスの供給流量を制御可能とした、ことを特徴とする超音波洗浄処理方法。

IPC (2)：

B08B3/12 ,  H01L21/304

FI (5)：

B08B3/12 Z ,  B08B3/12 A ,  H01L21/304 642E ,  H01L21/304 648K ,  H01L21/304 648L

F-Term (8)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB99

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特許第2821887号公報(特許請求の範囲、第1図)
  
• 特開昭64-4285号公報(特許請求の範囲、第1図)
  

Cited by examiner (2)

• 洗浄方法および洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-156910   Applicant：株式会社東芝
• 特開昭64-004285